曲面基底上的納米結構在許多領域都有著重要應用，例如仿生學、柔性電子學和光學器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術通常采用剛性模板，可以實現亞10nm的分辨率，但是模板不能彎折，無法在曲面基底上壓印制備納米結構。而采用彈性模板的軟壓印技術可以在無外界提供壓力下與曲面保形接觸，實現結構在非平面基底上的壓印復制，但是由于彈性模板的楊氏模量較低，所以壓印結構的分辨率和精度都受到限制?；谀壳凹{米壓印的發(fā)展現狀，結合傳統(tǒng)的納米壓印技術和軟壓印技術，中國科學院光電技術研究所團隊發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復合軟壓印模板的制備方法，該模板包含剛性結構層和彈性基底層。（來自網絡，侵權請聯系我們進行刪除，謝謝?。?納米壓印設備哪個好？預墨印章可用于將材料以明顯的圖案轉移到基材上。CMOS納米壓印現場服務

    NIL系統(tǒng)肖特增強現實負責人RuedigerSprengard博士表示：“將高折射率玻璃晶圓的制造擴展到300-mm，對于實現我們客戶滿足當今和未來**AR/MR設備不斷增長的市場需求所需的規(guī)模經濟產量來說至關重要。通過攜手合作，EVG和肖特彰顯了當今300-mm高折射率玻璃制造的設備和供應鏈的就緒性?！痹诖酥?，使用光刻/納米壓印技術對具有光子學應用結構的玻璃基板進行圖案成形***于200-mm基板。向300-mm晶圓加工的遷移是將AR/MR頭戴顯示設備推向大眾消費和工業(yè)市場邁出的重要一步。不過，在這些較大的基板上保持高基板質量和工藝均勻性是很難控制的，需要先進的自動化和工藝控制能力。EVG的SmartNIL技術得益于多年的研究、開發(fā)和實驗，旨在滿足納米圖案成形的需求，經過了現場驗證，能夠輕松從晶圓級樣品尺寸擴展到大面積基板。去年六月，EVG推出了HERCULES?NIL300mm，將SmartNIL引入300-mm制造，滿足各種設備和應用的生產需求，其中包括AR、MR和虛擬現實（VR）頭戴顯示設備的光學器件以及3D傳感器、生物醫(yī)療設備、納米光子學和等離子電子學。集成到SmartNIL?UV-NIL系統(tǒng)的全模塊化EVG?HERCULES?。3D IC納米壓印推薦型號EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場**的晶圓鍵合技術。

SmartNIL是一項關鍵的啟用技術，可用于顯示器，生物技術和光子應用中的許多新創(chuàng)新。例如，SmartNIL提供了****的全區(qū)域共形壓印，以便滿足面板基板上線柵偏振器的**重要標準。SmartNIL還非常適合對具有復雜納米結構的微流控芯片進行高精度圖案化，以支持下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備的生產。此外，SmartNIL的***發(fā)展為制造具有比較高功能，**小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結構提供了更多的自由度，這對于實現衍射光學元件（DOE）至關重要。

特征：

體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

專有SmartNIL ®技術，多使用聚合物印模技術

經過生產驗證的分辨率低至40 nm或更小

大面積全場壓印

總擁有成本比較低

在地形上留下印記

對準能力

室溫過程

開放式材料平臺

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。

EVG的HERCULES ® NIL產品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米

對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。 高 效，強大的SmartNIL工藝提供高圖案保真度，擁有高度均勻圖案層和**少殘留層，易于擴展的晶圓尺寸和產量。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG610附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG610技術數據：

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：比較大150毫米的碎片

柔軟的UV-NIL：比較大150毫米的碎片

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

自動分離：不支持

工作印章制作：外部

SmartNIL集成了多次使用的軟標記處理功能，因此還可以實現****的吞吐量。廣西納米壓印美元報價

EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。CMOS納米壓印現場服務

UV納米壓印光刻系統(tǒng)

EVG®610/EVG®620NT /EVG®6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準系統(tǒng)

■高精度對準臺

■自動楔形誤差補償機制

■電動和程序控制的曝光間隙

■支持***的UV-LED技術

■**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

EVG®720/EVG®7200/EVG®7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材

■體積驗證的壓印技術，具有出色的復制保真度

■專有的SmartNIL®技術和多用途聚合物印章技術

■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作

■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式

■適用于所有市售壓印材料的開放平臺

CMOS納米壓印現場服務

岱美儀器技術服務（上海）有限公司坐落在中國(上海)自由貿易試驗區(qū)加太路39號第五層六十五部位，是一家專業(yè)的磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】磁記錄、半導體、光通訊生產及測試儀器的批發(fā)、進出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關配套服務，國際貿易、轉口貿易，商務信息咨詢服務。 【依法須經批準的項目，經相關部門批準后方可開展經營活動】公司。公司目前擁有較多的高技術人才，以不斷增強企業(yè)重點競爭力，加快企業(yè)技術創(chuàng)新，實現穩(wěn)健生產經營。岱美儀器技術服務（上海）有限公司主營業(yè)務涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)，堅持“質量保證、良好服務、顧客滿意”的質量方針，贏得廣大客戶的支持和信賴。一直以來公司堅持以客戶為中心、磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)市場為導向，重信譽，保質量，想客戶之所想，急用戶之所急，全力以赴滿足客戶的一切需要。