曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用,例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板,可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸,實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù),中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊(duì)發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò),侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)...
EVG ? 520 HE特征: 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 氣動(dòng)壓花選項(xiàng) 軟件控制的流程執(zhí)行 EVG ? 520 HE技術(shù)數(shù)據(jù) 加熱器尺寸:150毫米,200毫米 比較大基板尺寸:150毫米,200毫米 **小基板尺寸:?jiǎn)涡酒?00毫米 比較大接觸力:10、20、60、100 kN 比較高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C 粘合卡盤系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器:EVG ? 610,EVG ? 620,EVG...
IQ Aligner?:用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng) ■用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用 ■用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用 ■三個(gè)**控制的Z軸,用于控制壓印光刻膠的總厚度變化(TTV),并在壓模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償 ■粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能 紫外線壓印_紫外線固化 印章 防紫外線基材 附加印記壓印納米結(jié)構(gòu)分離印記 用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后,將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過(guò)UV光交聯(lián)。 μ-接觸印刷 軟印章 基板上的材料 領(lǐng)取物料,物料轉(zhuǎn)移,刪除印章 EV...
EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)?技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動(dòng)化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了** 新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動(dòng)批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的Sm...
EVG ? 510 HE特征: 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動(dòng)化壓花工藝 EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 EVG ? 510 HE技術(shù)數(shù)據(jù): 加熱器尺寸:150毫米 ,200毫米 比較大基板尺寸:150毫米,200毫米 **小基板尺寸:?jiǎn)涡酒?00毫米 比較大接觸力:10、20、60 kN 比較高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C 夾盤系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) 150毫米加熱器:EVG ? 610,EVG ...
HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。 EVG的HERCULES ? NIL產(chǎn)品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米 對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術(shù) HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺(tái),將EVG專有的SmartNIL壓印技...
曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用,例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板,可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸,實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制?;谀壳凹{米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù),中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊(duì)發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò),侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)...
EVG ? 520 HE熱壓印系統(tǒng) 特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300...
EV集團(tuán)和肖特?cái)y手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開(kāi)展,這是一個(gè)開(kāi)放式的光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)創(chuàng)新孵化器,同時(shí)也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場(chǎng)晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)***宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團(tuán)肖特?cái)y手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓印(NIL)技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)(AR/MR)頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/...
納米壓印應(yīng)用三:連續(xù)性UV納米壓印 EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。 SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。EVG6200NT納米壓印可以試用嗎 IQ Align...
曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用,例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板,可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸,實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制?;谀壳凹{米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù),中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊(duì)發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò),侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)...
**的衍射波導(dǎo)設(shè)計(jì)商和制造商WaveOptics***宣布與EV Group(EVG)進(jìn)行合作,EV Group是晶圓鍵合和納米壓印光刻設(shè)備的**供應(yīng)商,以帶來(lái)高性能增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)( AR)波導(dǎo)以當(dāng)今業(yè)界*低的成本進(jìn)入大眾市場(chǎng)。波導(dǎo)是可穿戴AR的關(guān)鍵光學(xué)組件。 WaveOptics首席執(zhí)行官David Hayes評(píng)論:“這一合作伙伴關(guān)系標(biāo)志著增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)行業(yè)的轉(zhuǎn)折點(diǎn),是大規(guī)模生產(chǎn)高質(zhì)量增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)解決方案的關(guān)鍵步驟,這是迄今為止尚無(wú)法實(shí)現(xiàn)的能力。” EVG的專業(yè)知識(shí)與我們可擴(kuò)展的通用技術(shù)的結(jié)合將使到明年年底,AR終端用戶產(chǎn)品的市場(chǎng)價(jià)格將低于600美元?!斑@項(xiàng)合作...
通過(guò)中心提供的試驗(yàn)生產(chǎn)線基礎(chǔ)設(shè)施,WaveOptics將超越其客戶對(duì)下個(gè)季度的預(yù)期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導(dǎo)的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實(shí)現(xiàn)的價(jià)格提供高性能,商用波導(dǎo)來(lái)幫助客戶將AR顯示器推向市場(chǎng)的承諾。利用EVG在批量生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),到2019年,AR終端用戶產(chǎn)品將以不到600美元的價(jià)格進(jìn)入市場(chǎng),這是當(dāng)今行業(yè)中的*低價(jià)位。 **小外形尺寸和大體積創(chuàng)新型光子結(jié)構(gòu)提供了更多的自由度,這對(duì)于實(shí)現(xiàn)衍射光學(xué)元件(DOE)至關(guān)重要。江蘇納米壓...
EVG ? 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng) 分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作 EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺(tái),可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從** 大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。 EVG770的主要功能包括精確的對(duì)準(zhǔn)功能,完整的過(guò)程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。 HERCULES ? NIL是完全集成S...
EVG ? 6200 NT特征: 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言) 敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版 EVG ? 6200 NT附加功能: 鍵對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn) 智能NIL ? μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù) 晶圓直徑(基板尺寸) 標(biāo)準(zhǔn)光刻:75至200 mm 柔...
EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力設(shè)有EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)?技術(shù)范圍達(dá)150m。這些系統(tǒng)以其自動(dòng)化的靈活性和可靠性而著稱,以**小的占地面積提供了** 新的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和工具更換時(shí)間以及高 效的全球服務(wù)和支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動(dòng)批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的Sm...
UV納米壓印光刻 EV Group提供完整的UV納米壓印光刻(UV-NIL)產(chǎn)品線,包括不同的***積壓印系統(tǒng),大面積壓印機(jī),微透鏡成型設(shè)備以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。除了柔軟的UV-NIL,EVG還提供其專有的SmartNIL技術(shù)以及多種用途的聚合物印模技術(shù)。高 效,強(qiáng)大的SmartNIL工藝可提供高圖案保真度,高度均勻的圖案層和**少的殘留層,并具有易于擴(kuò)展的晶圓尺寸和產(chǎn)量。EVG的SmartNI技術(shù)達(dá)到了納米壓印的長(zhǎng)期預(yù)期,即納米壓印是一種用于大規(guī)模生產(chǎn)微米和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的高性能,低成本和具有批量生產(chǎn)能力的技術(shù)。 EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù),具...
HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。 EVG的HERCULES ? NIL產(chǎn)品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米 對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術(shù) HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺(tái),將EVG專有的SmartNIL壓印技...
對(duì)于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力,以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。 EVG610特征: 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言) 敏...
首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層,然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上,彈性薄膜壓印在巰基-烯層上,與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過(guò)“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物,不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開(kāi)母板后,彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起,獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性,剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此,利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板,經(jīng)過(guò)表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志...
HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。 EVG的HERCULES ? NIL產(chǎn)品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米 對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術(shù) HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺(tái),將EVG專有的SmartNIL壓印技...
對(duì)于壓印工藝,EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外,還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可提供均勻的接觸力,以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印,該卡盤支持軟性和硬性印模。 EVG610特征: 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言) 敏...
通過(guò)中心提供的試驗(yàn)生產(chǎn)線基礎(chǔ)設(shè)施,WaveOptics將超越其客戶對(duì)下個(gè)季度的預(yù)期需求,并有一條可靠的途徑將大批量生產(chǎn)工藝和設(shè)備轉(zhuǎn)移至能夠大規(guī)模生產(chǎn)波導(dǎo)的指定設(shè)施適用于全球前列OEM品牌。 WaveOptics與EVG的合作突顯了其致力于以可實(shí)現(xiàn)的價(jià)格提供高性能,商用波導(dǎo)來(lái)幫助客戶將AR顯示器推向市場(chǎng)的承諾。利用EVG在批量生產(chǎn)設(shè)備和工藝技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),到2019年,AR終端用戶產(chǎn)品將以不到600美元的價(jià)格進(jìn)入市場(chǎng),這是當(dāng)今行業(yè)中的*低價(jià)位。 納米壓印設(shè)備可用來(lái)進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。高校納米壓印技術(shù)服務(wù) Sm...
曲面基底上的納米結(jié)構(gòu)在許多領(lǐng)域都有著重要應(yīng)用,例如仿生學(xué)、柔性電子學(xué)和光學(xué)器件等。傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)通常采用剛性模板,可以實(shí)現(xiàn)亞10nm的分辨率,但是模板不能彎折,無(wú)法在曲面基底上壓印制備納米結(jié)構(gòu)。而采用彈性模板的軟壓印技術(shù)可以在無(wú)外界提供壓力下與曲面保形接觸,實(shí)現(xiàn)結(jié)構(gòu)在非平面基底上的壓印復(fù)制,但是由于彈性模板的楊氏模量較低,所以壓印結(jié)構(gòu)的分辨率和精度都受到限制。基于目前納米壓印的發(fā)展現(xiàn)狀,結(jié)合傳統(tǒng)的納米壓印技術(shù)和軟壓印技術(shù),中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所團(tuán)隊(duì)發(fā)展了一種基于紫外光固化巰基-烯材料的亞100nm分辨率的復(fù)合軟壓印模板的制備方法,該模板包含剛性結(jié)構(gòu)層和彈性基底層。(來(lái)自網(wǎng)絡(luò),侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)...
EVG610特征: 頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力 高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái) 自動(dòng)楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 電動(dòng)和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念(無(wú)限數(shù)量的用戶帳戶和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶界面語(yǔ)言) 敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換 臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版 EVG610附加功能: 鍵對(duì)準(zhǔn) 紅外對(duì)準(zhǔn) 納米壓印光刻 μ接觸印刷 EVG610技術(shù)數(shù)據(jù): 晶圓直徑(基板尺寸) 標(biāo)準(zhǔn)光刻:比較大150...
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。 *分辨率取決于過(guò)程和模板 如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板...
HERCULES?NIL:完全集成的納米壓印光刻解決方案,可實(shí)現(xiàn)300 mm的大批量生產(chǎn) ■批量生產(chǎn)低至40 nm的結(jié)構(gòu)或更小尺寸(分辨率取決于過(guò)程和模板) ■結(jié)合了預(yù)處理(清潔/涂布/烘烤/冷卻)和SmartNIL?技術(shù) ■全自動(dòng)壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復(fù)使用工作印章 ■具備工作印章制造能力 EVG?770:連續(xù)重復(fù)的納米壓印光刻技術(shù),可進(jìn)行有效的母版制作 ■用于晶圓級(jí)光學(xué)器件的微透鏡的高 效母模制造,直至SmartNIL?的納米結(jié)構(gòu) ■不同類型的母版的簡(jiǎn)單實(shí)現(xiàn) ■可變的光刻膠分配模式 ■分配,壓印和脫模過(guò)程中...
SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術(shù),可對(duì)小于40 nm *的極小特征進(jìn)行圖案化,并可以對(duì)各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合,可實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢(shì),同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長(zhǎng)期前景,即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本,大批量替代光刻技術(shù)。 *分辨率取決于過(guò)程和模板 如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 SmartNIL技術(shù)可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。臺(tái)積電納米壓印摩擦學(xué)應(yīng)用...
EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。 用UV納米壓印能力為特色的EVG's專有SmartNIL通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)?技術(shù),在100毫米范圍內(nèi)。 EVG620 NT以其靈活性和可靠性而聞名,它以**小的占位面積提供了***的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。操作員友好型軟件,**短的掩模和模具更換時(shí)間以及有效的全球服務(wù)支持使它們成為任何研發(fā)環(huán)境(半自動(dòng)批量生產(chǎn))的理想解決方案。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,以及背面對(duì)準(zhǔn)選項(xiàng)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專有的SmartNI...
EVG ? 520 HE熱壓印系統(tǒng) 特色:經(jīng)通用生產(chǎn)驗(yàn)證的熱壓印系統(tǒng),可滿足比較高要求 EVG520 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。EVG的這種經(jīng)過(guò)生產(chǎn)驗(yàn)證的系統(tǒng)可以接受直徑比較大為200 mm的基板,并且與標(biāo)準(zhǔn)的半導(dǎo)體制造技術(shù)兼容。熱壓印系統(tǒng)配置有通用壓花腔室以及高真空和高接觸力功能,并管理適用于熱壓印的整個(gè)聚合物范圍。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng),提供了許多用于高質(zhì)量圖案轉(zhuǎn)印和納米分辨率的工藝。 如果需要詳細(xì)的信息,請(qǐng)聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。 NIL已被證明是在大面積上實(shí)現(xiàn)納米級(jí)圖案的相當(dāng)有成本效益的方法。EVG520 H...