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EVG6200NT納米壓印可以試用嗎

來源: 發(fā)布時間:2020-01-07

納米壓印應(yīng)用三:連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合,分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。


SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)。EVG6200NT納米壓印可以試用嗎

IQ Aligner UV-NIL 自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)

應(yīng)用:用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

IQ Aligner UV-NIL系統(tǒng)允許使用直徑從150 mm至300 mm的壓模和晶片進(jìn)行微成型和納米壓印工藝,非常適合高度平行地制造聚合物微透鏡。該系統(tǒng)從從晶圓尺寸的主圖章復(fù)制的軟性圖章開始,提供了混合和整體式微透鏡成型工藝,可以輕松地將其與工作圖章和微透鏡材料的各種材料組合相適應(yīng)。此外,EV Group提供合格的微透鏡成型工藝,包括所有相關(guān)的材料專業(yè)知識。EV Group專有的卡盤設(shè)計(jì)可為高產(chǎn)量大面積印刷提供均勻的接觸力。配置包括從壓印基材上釋放印章的釋放機(jī)制。


江蘇納米壓印有誰在用EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。

EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL

® UV納米壓印光刻系統(tǒng)

用于大面積****的共形納米壓印光刻。

EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經(jīng)過量證明的SmartNIL技術(shù),將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)有效的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制,并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。

SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝,提供了低至40 nm *的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨(dú)特且經(jīng)過驗(yàn)證的設(shè)備功能(包括****的易用性)以及高水平的工藝專業(yè)知識,EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。

*分辨率取決于過程和模板

SmartNIL技術(shù)簡介

SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù),幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能,因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量,并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢,同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外,主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。


IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。

    它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計(jì)和制造提供了一種獨(dú)特的方法,可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn),先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料,需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性,以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)(HVM)的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性,以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識,才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中,以**小的形狀因子達(dá)到晶圓級光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備制造商之間的密切合作,促成了工藝流程的研發(fā)與改善,確保晶圓級光學(xué)元件的高質(zhì)量和制造的可靠性。EVG和DELO的合作將支持雙方改善工藝流程與產(chǎn)品,并增強(qiáng)雙方的專業(yè)技能,從而適應(yīng)當(dāng)前與未來市場的要求。雙方的合作提供了成熟的材料與專業(yè)的工藝技術(shù),并將加快新產(chǎn)品設(shè)計(jì)與原型制造的速度,為雙方的客戶保駕護(hù)航?!癗ILPhotonics解決方案支援中心的獨(dú)特之處是:它解決了行業(yè)內(nèi)部需要用更短時間研發(fā)產(chǎn)品的需求,同時保障比較高的保密性。EVG ? 610也可以設(shè)計(jì)成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。碳化硅納米壓印用途

岱美儀器代理的SmartNIL是一項(xiàng)關(guān)鍵的啟用技術(shù),可用于顯示器,生物技術(shù)和光子應(yīng)用中的許多新創(chuàng)新。EVG6200NT納米壓印可以試用嗎

    EV集團(tuán)和肖特攜手合作,證明300-MM光刻/納米壓印技術(shù)在大體積增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)玻璃制造中已就緒聯(lián)合工作將在EVG的NILPhotonics?能力中心開展,這是一個開放式的光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)創(chuàng)新孵化器,同時也是全球***可及的300-mm光刻/納米壓印技術(shù)線2019年8月28日,奧地利,圣弗洛里安――微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)、納米技術(shù)和半導(dǎo)體市場晶圓鍵合與光刻設(shè)備**供應(yīng)商EV集團(tuán)(EVG)***宣布,與特種玻璃和微晶玻璃領(lǐng)域的**技術(shù)集團(tuán)肖特攜手合作,證明300-mm(12英寸)光刻/納米壓?。∟IL)技術(shù)在下一代增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)/混合現(xiàn)實(shí)(AR/MR)頭戴顯示設(shè)備的波導(dǎo)/光導(dǎo)制造中使用的高折射率(HRI)玻璃晶圓的大體積圖案成形已就緒。此次合作涉及EVG的專有SmartNIL?工藝和SCHOTTRealView?高折射率玻璃晶圓,將在EVG位于奧地利總部的NILPhotonics?能力中心進(jìn)行。肖特將于9月4日至7日在深圳會展中心舉行的中國國際光電博覽會上展示一款采用EVGSmartNIL技術(shù)進(jìn)行圖案成形的300-mmSCHOTTRealView?玻璃晶圓。300-mm和200-mmSCHOTTRealView?玻璃基板,裝配在應(yīng)用SmartNIL?UV-NIL技術(shù)的EVG?HERCULES?。EVG6200NT納米壓印可以試用嗎

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