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來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-07-26

由此能夠縮短s34的處理所需的時(shí)間。在s34的處理之后,元件保持狀態(tài)確認(rèn)處理(s3)進(jìn)行基于測(cè)定部135的控制,測(cè)定根據(jù)特定位置信息識(shí)別出的元件保持部35的位置(中心坐標(biāo)35p的位置)與根據(jù)在s34的處理中得到的元件圖像g識(shí)別出的元件p的位置之間的位置偏差量(s35:測(cè)定工序)。在s35的處理之后,元件安裝處理使元件保持狀態(tài)確認(rèn)處理(s3)結(jié)束并移向安裝處理(s4)。接著,參照?qǐng)D9所示的流程圖來(lái)說(shuō)明在元件安裝處理中執(zhí)行的安裝處理(s4)。如圖9所示,安裝處理(s4)個(gè)進(jìn)行基于安裝控制部120的控制,將旋轉(zhuǎn)頭33的分度角度設(shè)定為0度或者180度(s41:安裝前分度工序)。該s41的處理是為了從保持于元件保持部35a的元件p起開(kāi)始元件p對(duì)于電路基板k的安裝而進(jìn)行的處理。即,在s41中,安裝有元件保持部35a的吸嘴座34的卡合片36配置在與z軸驅(qū)動(dòng)裝置90a的一對(duì)夾持部95a或者第二z軸驅(qū)動(dòng)裝置90b的一對(duì)夾持部95b中的任意一個(gè)對(duì)應(yīng)的位置(升降位置)。另外,安裝處理(s4)與s41的處理并行地進(jìn)行基于安裝控制部120的控制,使安裝頭32向基板相機(jī)42的拍攝位置移動(dòng)(s42)。在該情況下,在與安裝頭32的移動(dòng)并行地進(jìn)行旋轉(zhuǎn)頭33的分度時(shí)。電子料回收,就選上海海谷電子有限公司,有想法的可以來(lái)電咨詢!內(nèi)蒙古零散電子料回收平臺(tái)

圖3為本實(shí)用新型帶引腳漆的電子元件不設(shè)置k腳結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖;附圖標(biāo)記:1、電子元件本體;2、引腳;21、k腳結(jié)構(gòu);3、引腳絕緣漆涂層?!揪唧w實(shí)施方式】下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施方式對(duì)本實(shí)用新型做進(jìn)一步描述:實(shí)施例一:如圖1所示,一種帶引腳漆的電子元件,包括電子元件本體1、引腳2、引腳絕緣漆涂層3,所述電子元件本體1兩端分別設(shè)有一根引腳2,其中一根引腳2向電子元件本體1一側(cè)的部分涂覆有引腳絕緣漆涂層3。推薦地,所述涂覆有引腳絕緣漆涂層3的引腳2上設(shè)有k腳結(jié)構(gòu)21,所述k腳結(jié)構(gòu)21位于涂覆有絕緣漆涂層3的引腳2部分與引腳2的前端之間。實(shí)施例二:如圖2所示,兩根引腳2向電子元件本體1一側(cè)的部分均涂覆有引腳絕緣漆涂層3。實(shí)施例三:如圖3所示,所述涂覆有引腳絕緣漆涂層3的引腳2也可不設(shè)置k腳結(jié)構(gòu)21。根據(jù)上述說(shuō)明書(shū)的揭示和教導(dǎo),本實(shí)用新型所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還可以對(duì)上述實(shí)施方式進(jìn)行適當(dāng)?shù)淖兏托薷?。因此,本?shí)用新型并不局限于上面揭示和描述的具體實(shí)施方式,對(duì)本實(shí)用新型的一些修改和變更也應(yīng)當(dāng)落入本實(shí)用新型的權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi)。此外,盡管本說(shuō)明書(shū)中使用了一些特定的術(shù)語(yǔ),但這些術(shù)語(yǔ)只是為了方便說(shuō)明,并不對(duì)本實(shí)用新型構(gòu)成任何限制。上海專業(yè)電子料回收平臺(tái)上海海谷電子有限公司為您提供電子料回收,有想法的可以來(lái)電咨詢!

吸嘴座34的從r軸線方向觀察時(shí)的周向位置與從z軸滑動(dòng)件91a、91b的從r軸線方向觀察時(shí)的周向位置一致,卡合片36插入到一對(duì)夾持部95a、95b之間。并且,z軸驅(qū)動(dòng)裝置90a及第二z軸驅(qū)動(dòng)裝置90b在卡合片36插入到一對(duì)夾持部95a、95b之間的狀態(tài)下使z軸滑動(dòng)件91a、91b下降。由此,卡合片36被卡合的夾持部95a、95b按下,吸嘴座34隨著z軸滑動(dòng)件91a、91b的下降而下降。這樣,安裝頭32在將旋轉(zhuǎn)頭33分度至分度角度的狀態(tài)下通過(guò)作為升降裝置的z軸驅(qū)動(dòng)裝置90a及第二z軸驅(qū)動(dòng)裝置90b而使配置于升降位置的吸嘴座34及元件保持部35進(jìn)行升降,由此進(jìn)行元件p的拾取及安裝。1-3.關(guān)于控制裝置100接著,參照?qǐng)D3來(lái)說(shuō)明控制裝置100。如圖3所示,控制裝置100主要由cpu和各種存儲(chǔ)器等構(gòu)成??刂蒲b置100具備:存儲(chǔ)裝置110、安裝控制部120、圖像處理裝置130及輸入輸出接口140。這些存儲(chǔ)裝置110、安裝控制部120、圖像處理裝置130及輸入輸出接口140經(jīng)由總線150而相互連接。來(lái)自xy機(jī)器人31的各種馬達(dá)的檢測(cè)信號(hào)、來(lái)自安裝頭32的各種馬達(dá)和各種傳感器的檢測(cè)信號(hào)、來(lái)自元件相機(jī)41及基板相機(jī)42的圖像信號(hào)等經(jīng)由輸入輸出接口140而向控制裝置100輸入。另外。

例如人工耳蝸植入體、視網(wǎng)膜刺激視覺(jué)假體、腦皮層刺激器、脊髓刺激器和深部腦刺激器(腦起搏器)等植入裝置,并且柔性電纜可在與組織接觸時(shí)避免對(duì)組織進(jìn)行傷害,并能保證生物相容性和可靠性。引入部分110上具有至少一個(gè)通孔114,通孔114用于填充導(dǎo)電材料,以在引入部分110上連接電子元件。連接部分120的表面或內(nèi)部包括與刺激端130對(duì)應(yīng)的金屬層(未示出)。刺激端130上具有多個(gè)刺激電極131,并經(jīng)由連接部分120連接至引入部分110,刺激電極131經(jīng)由通孔114連接電子元件,以形成完整的電路。本實(shí)施例中是以植入裝置的電路板為例說(shuō)明電路板的結(jié)構(gòu),但本發(fā)明的電路板不限于柔性電纜,電子設(shè)備也不限于植入裝置,電路板100可以是由絕緣層和金屬層形成的任意形狀的電路板,以提供電子元件之間的電連接或提供電子元件與其他電子電路的電連接,從而形成其他電子設(shè)備。圖5a至5h示出了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的電路板的制造方法的各個(gè)階段的截面圖。截面圖沿著圖2中的aa線截取。該方法開(kāi)始于襯底101以及襯底101上的光刻膠層102,如圖5a所示。襯底101用于提供機(jī)械支撐,光刻膠層102用于在切割工藝中保護(hù)襯底101,并在釋放電路板的步驟中作為**層。在替代的實(shí)施例中,可以省去光刻膠層102。上海海谷電子有限公司電子料回收值得用戶放心。

第三覆蓋層33、33'包含環(huán)氧樹(shù)脂、聚萘二甲酸乙二醇酯(pen)、聚酰亞胺、聚酰胺、聚氨酯或硅樹(shù)脂。本發(fā)明的第二個(gè)目的是電子元件或電化學(xué)元件,如電池,推薦為包括封裝系統(tǒng)30的薄膜電池,本發(fā)明的另一個(gè)目的是電化學(xué)元件,所述元件是薄膜電池,所述電池包括-至少一個(gè)負(fù)極10、10'和至少一個(gè)正極20、20'交替的堆疊,各負(fù)極10、10'和各正極20、20'由薄膜堆疊組成,并且其中所述負(fù)極10、10'包括-至少一層活性負(fù)極材料薄膜12以及-任選地,電解質(zhì)材料薄膜13,并且在該堆疊中正極20、20'包括-至少一層活性正極材料薄膜22以及-任選地,電解質(zhì)材料薄膜23,以使電池依次包括至少一層活性負(fù)極材料薄膜12、至少一層電解質(zhì)材料薄膜13、23和至少一層活性正極材料薄膜22,-封裝系統(tǒng)30,其中所述層31、31'至少部分地覆蓋堆疊,所述封裝系統(tǒng)30部分地覆蓋所述堆疊,負(fù)極10或正極20包括至少一個(gè)可及連接區(qū)域(accessibleconnectionzone),而相鄰的正極20或負(fù)極10包括覆蓋區(qū)域zrt,該覆蓋區(qū)域至少被所述覆蓋層31、31'和所述第二覆蓋層32、32'覆蓋,所述覆蓋區(qū)域位于垂直于所述堆疊的平面的方向、朝向負(fù)極或正極的連接區(qū)域zc。本發(fā)明的另一個(gè)目的是一種用于制造封裝的電子元件或電化學(xué)元件的方法。上海海谷電子有限公司致力于提供電子料回收,期待您的光臨!福建工廠電子料回收處理

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包括形成封裝系統(tǒng)30,并且其中依次沉積下列層從而形成所述封裝系統(tǒng)30:(i)覆蓋層31、31',其由通過(guò)ald的電絕緣材料構(gòu)成,(ii)第二覆蓋層32、32',其包含聚對(duì)二甲苯和/或聚酰亞胺,第二覆蓋層沉積在所述覆蓋層上,(iii)第三覆蓋層33、33',其沉積在第二覆蓋層上,第三覆蓋層能夠并且以保護(hù)第二封裝層(即,免受氧影響)的方式沉積。本發(fā)明的另一個(gè)目的是一種用于制造電子元件或封裝的電池的方法,包括形成根據(jù)本發(fā)明的封裝系統(tǒng),并且其中依次沉積下列層從而形成所述封裝系統(tǒng):-預(yù)處理層,其包含聚對(duì)二甲苯和/或聚酰亞胺,預(yù)處理層位于所述電子元件或電化學(xué)元件上,-覆蓋層31、31',其由通過(guò)ald的電絕緣材料構(gòu)成,覆蓋層沉積在包含聚對(duì)二甲苯和/或聚酰亞胺的所述覆蓋層上,-第二覆蓋層32、32',其包含聚對(duì)二甲苯和/或聚酰亞胺,第二覆蓋層沉積在所述覆蓋層上,-第三覆蓋層33、33',其沉積在第二覆蓋層上,第三覆蓋層能夠并且以保護(hù)第二封裝層(即,免受氧影響)的方式沉積。本發(fā)明的再一個(gè)目的是一種用于制造薄膜電池的方法,所述電池包括至少一個(gè)負(fù)極10、10'和至少一個(gè)正極20、20'交替的堆疊,各負(fù)極和各正極由薄膜的堆疊構(gòu)成,并且其中負(fù)極10、10'包括。內(nèi)蒙古零散電子料回收平臺(tái)

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