【主要元件符號說明】100電鍍裝置10上槽體11***槽12第二槽20陰極21陰極***部分22陰極第二部分30***陽極40第二陽極50下槽體51隔擋件52***下槽區(qū)53第二下槽區(qū)60隔板61***排水孔62第二排水孔63控制組件70液體輸送組件71***泵72第二泵80管體81***管部82第二管部821排液孔83第三管部84外管85內(nèi)管851出孔x待鍍物y通孔具體實施方式為了使本發(fā)明內(nèi)容的敘述更加詳盡與完備，下文將參照附圖來描述本發(fā)明的實施方式與具體實施例；但這并非實施或運用本發(fā)明內(nèi)容具體實施例的***形式。以下所發(fā)明的各實施例，在有益的情形下可相互組合或取代，也可在一實施例中附加其他的實施例，而無須進一步的記載或說明。另外，空間相對用語，如「下」、「上」等，是用以方便描述一組件或特征與其他組件或特征在圖式中的相對關系。這些空間相對用語旨在包含除了圖式中所示的方式以外，裝置在使用或操作時的不同方式。裝置可被另外定設(例如旋轉(zhuǎn)90度或其他方式)，而本文所使用的空間相對敘述亦可相對應地進行解釋。于本文中，除非內(nèi)文中對于冠詞有所特別限定，否則『一』與『該』可泛指單一個或多個。將進一步理解的是，本文中所使用的『包含』、『包括』、『具有』及相似詞匯。電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，讓您滿意，有想法可以來我司咨詢！廣東金屬電鍍效果圖

本發(fā)明涉及電鍍領域，更具體的說是一種電鍍系統(tǒng)及電鍍方法。背景技術：申請?zhí)枮閏n，該實用新型提供了一種電鍍裝置和電鍍設備，與電鍍池配合以對電路板進行電鍍，電鍍裝置包括驅(qū)動機構、驅(qū)動連接于驅(qū)動機構且由導電材料制成的安裝件、多個固定安裝于安裝件上以裝夾電路板的夾具，夾具由導電材料制成，每一夾具均與安裝件電連接，安裝件懸至于電鍍池的上方，夾具和裝夾于夾具上的電路板均固定于安裝件，驅(qū)動機構用于驅(qū)動安裝件，以通過安裝件帶動夾具和電路板一并運動，且使電路板運動至電鍍池內(nèi)。該實用新型的電鍍裝置可以避免電路板的電鍍時間不一致，各電路板的電壓、電流和電鍍時間均一致，進而提高各電路板電鍍效果的一致性，進而保證同一批次的電路板電鍍處理后的銅厚一致。但是該**無法使零件在電鍍液中移動進行電鍍。技術實現(xiàn)要素：本發(fā)明提供一種電鍍系統(tǒng)，其有益效果為本發(fā)明可以使零件在電鍍液中移動進行電鍍，提高了電鍍效果。本發(fā)明涉及電鍍領域，更具體的說是一種電鍍系統(tǒng)，包括陰極柱、零件托板、側(cè)擋板、三角塊、t形架、固定套、緊固螺釘、陽極柱和電鍍液盒，本發(fā)明可以使零件在電鍍液中移動進行電鍍，提高了電鍍效果。所述零件托板的左側(cè)固定連接有側(cè)擋板。天津表面電鍍效果圖浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產(chǎn)品，有想法的不要錯過哦！

ReversibleReaction)假設將一支銅棒放入酸性藍色的**銅溶液中，理論上固與液兩相之間并非***靜止之狀態(tài)。其微觀介面上，將會出現(xiàn)銅溶解與銅離子沉積兩種反應同時進行。金屬銅的溶解(例如CuCu+++Ze-)在電化學上稱為游離或解離，是一種失去電子的廣義氧化作用。銅離子的鍍出(例如Cu+++2e－Cu0)則是一種接受電子的沉積反應，是一種還原作用。因為是有進有出有來有往，故學理上稱之為可逆反應(ReversibleReaction)，但其間對外的凈電流(NetCurrent)卻保持在零的狀態(tài)。若從動力學的觀點，此種電極可逆反應進行所需的吉布森自由能(Gibbsfreeenergy)(G1與上G2)可從下示意圖中得知。電鍍銅電極電位(ElectrodePotential)因為單一電極的電極反應，無法求出其電位倒底是多少，故必須找出一種公定的參考標準，做彼此較量比對的依據(jù)，才能比較出各種金屬電極在某一溶液中的電極電位。電化學領域是以“標準氫電極”(StandardHydrogenElectrode；SHE)做為參考。也就將下圖中白金極(Pt)所發(fā)出的H2與氫離子之間的反應，當成人為的零電位：但先決條件是必須要將反應狀況設定在氫氣壓為一個大氣壓(1atm)，氫離子活性(Activity)為1，反應溫度為25℃之狀態(tài)。

并非必須執(zhí)行所有繪示的操作、步驟及/或特征才能實現(xiàn)本發(fā)明的實施方式。此外，在此所述的每一個操作或步驟可以包含數(shù)個子步驟或動作。本發(fā)明的另一方法是提供一種電鍍的方法，包含以下操作步驟。(1)提供電鍍裝置100(如圖2與圖7所示)。(2)提供待鍍物x，且待鍍物x具有多通孔y貫穿待鍍物x。(3)將電鍍液注入上槽體10及下槽體50。(4)將待鍍物x電性連接陰極20，其中待鍍物x將上槽體10區(qū)隔為***槽11及第二槽12，其中***排水孔61設于***槽11，第二排水孔62設于第二槽12。在一些實施例中，待鍍物x與上槽體10的底部之間可以為相抵靠、或是距離為，較佳為2、3、4、5、10、20、30、40、50、60、70、80、90或100公分。在一些實施例中，待鍍物x為印刷電路板，具有多通孔y。印刷電路板包括，但不限于高速厚大板(high-layercount)。相較于一般電路板，由于高速厚大板具有較大的縱橫比，使得這些通孔y的孔壁較深且長。(5)提供電設至陰極20、***陽極30及第二陽極40以進行電鍍制程，并開啟***排水孔61，使設于上槽體10的一部分的電鍍液從第二槽12流向***槽11，再從***槽11經(jīng)***排水孔61流至下槽體50。在一些實施例中，于步驟。浙江共感電鍍有限公司為您提供 電鍍產(chǎn)品，期待為您產(chǎn)品！

也可以用現(xiàn)有的電源來定每槽可鍍的產(chǎn)品多少。當然，正式的電鍍加工都會采用比較可靠的硅整流裝置，并且主要的指標是電流值的大小和可調(diào)范圍，電壓則由0～18V隨電流變化而變動。根據(jù)功率大小而可選用單相或三相輸入，要能防潮和散熱。工業(yè)用電鍍電源一般從l00A到幾千安不等，通常也是根據(jù)生產(chǎn)能力需要而預先設計確定的，**好是單槽單用，不要一部電源向多個鍍槽供電。如果只在實驗室做試驗，則采用5～1OA的小型實驗整流電源就行了。1993年我國機械工業(yè)部****編制了電鍍用整流設備的標準(JB/T1504-1993)，對我國設計和生產(chǎn)的電鍍整流器的型號、規(guī)格、技術參數(shù)等都作出了相關規(guī)定。隨著電力科學技術的進步，在整流電源的設計和制作上已經(jīng)有很大改進，很多電鍍電源已經(jīng)向多功能、大功率、小體積等方向發(fā)展。自動換向、可調(diào)脈沖、平滑調(diào)節(jié)等都已經(jīng)是常見的功能。常用的風冷式可控硅整流器的技術規(guī)格見表1。電鍍設備電鍍槽電鍍用的鍍槽包括電鍍生產(chǎn)中各工序的**槽體。不光只是電鍍槽，還包括前處理用的除油槽、酸洗槽和清洗槽、活化槽，后處理的鈍化槽、熱水槽等。由于電鍍用槽仍然屬于非標準設備，其規(guī)格和大小有很大變通空間的設備。小到燒杯，大到水池都可以用來做鍍槽。浙江共感電鍍有限公司致力于提供 電鍍產(chǎn)品，有需求可以來電咨詢！天津表面電鍍效果圖

電鍍產(chǎn)品，就選浙江共感電鍍有限公司，有想法的可以來電咨詢！廣東金屬電鍍效果圖

此時生成沉淀，立即加入硫代**鈉（或硫代**銨）溶液并不斷攪拌，使白色沉淀完全溶，再加水至所需要的量。(3)將配制成的鍍液放于日光下照射數(shù)小時，加O．5g/L的活性炭，過濾，即得清亮液。添加劑的組成SL-80添加劑是由含氮的有機化合物與含環(huán)氧基團化合物的縮產(chǎn)物，使用該添加劑不增加鍍層硬度。SL-80添加劑的消耗量為lOOmL/(kA．h)。(4)工藝特點該鍍銀工藝，電流密度大，鍍層光亮細致，溫度范圍剪，定，深鍍能力與分散能力也可以和**鍍銀工藝相仿。(5)注意事項配制過程中要特別注意，環(huán)要將硝酸銀直接加入到硫代**鈉（或代**銨）溶液中，否則溶液容易變黑。因為硝酸銀會與硫代**鹽作用，首先生成色的硫代**銀沉淀，然后會逐漸水解變成黑色硫化銀。新配的鍍液可能會顯微黃色，或有極少量的渾濁或沉淀，過濾后即可可以變清。試鍍前可以先電解一定時間，這時陽極可能會出現(xiàn)黑膜，可以銅絲刷刷去，并適當增加陽極面積，以降低陽極電流密度。在亭卜充鍍液中的銀離子時，一定要按配制方法的程序進行，不可以直接往鍍液中加硝酸銀。同時，保持鍍液中焦亞**鉀的量在正常范圍內(nèi)。因為它的存在，有利于硫**鹽的穩(wěn)定。否則硫代**根會出現(xiàn)析出硫的反應，而硫的析出對鍍銀是非常不利的。廣東金屬電鍍效果圖