HERCULES NIL 300 mm提供了市場(chǎng)上**的納米壓印功能，具有較低的力和保形壓印，快速的高功率曝光和平滑的壓模分離。該系統(tǒng)支持各種設(shè)備和應(yīng)用程序的生產(chǎn)，包括用于增強(qiáng)/虛擬現(xiàn)實(shí)（AR / VR）頭戴式耳機(jī)的光學(xué)設(shè)備，3D傳感器，生物醫(yī)學(xué)設(shè)備，納米光子學(xué)和等離激元學(xué)。
HERCULES ® NIL特征：
全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過(guò)程和模板
EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)有： EVG?610，EVG?620NT，EVG?6200NT，EVG?720，EVG?7200等。EV Group納米壓印微流控應(yīng)用
SmartNIL技術(shù)簡(jiǎn)介
SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無(wú)限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢(shì)，同時(shí)保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外，主模板的壽命延長(zhǎng)到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r(shí)間。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。
HERCULES NIL納米壓印售后服務(wù)EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。
EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)**的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。
NILPhotonics®能力中心-支持和開(kāi)發(fā)
NILPhotonics能力中心是經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。
歡迎各位客戶來(lái)樣制作，驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。
EVG ® 720特征：
體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度
專(zhuān)有SmartNIL ®技術(shù)，多使用聚合物印模技術(shù)
集成式壓印，UV固化脫模和工作印模制造
盒帶到盒帶自動(dòng)處理以及半自動(dòng)研發(fā)模式
可選的頂部對(duì)準(zhǔn)
可選的迷你環(huán)境
適用于所有市售壓印材料的開(kāi)放平臺(tái)
從研發(fā)到生產(chǎn)的可擴(kuò)展性
系統(tǒng)外殼，可實(shí)現(xiàn)比較好過(guò)程穩(wěn)定性和可靠性技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑（基板尺寸）
75至150毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：可選的頂部對(duì)準(zhǔn)
自動(dòng)分離：支持的
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EVG的熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高 效且靈活的制造技術(shù)，具有非常高的復(fù)制精度，可用于**小50 nm的特征尺寸。
據(jù)外媒報(bào)道，美國(guó)威斯康星大學(xué)麥迪遜分校（UWMadison）的研究人員們，已經(jīng)同合作伙伴聯(lián)手實(shí)現(xiàn)了一種突破性的方法。不僅**簡(jiǎn)化了低成本高性能、無(wú)線靈活的金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管（MOSFET）的制造工藝，還克服了許多使用標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)制造設(shè)備時(shí)所遇到的操作上的問(wèn)題。該技術(shù)可用于制造大卷的柔性塑料印刷線路板，并在可穿戴電子設(shè)備和彎曲傳感器等領(lǐng)域派上大用場(chǎng)。研究人員稱(chēng)，這項(xiàng)突破性的納米壓印平板印刷制造工藝，可以在普通的塑料片上打造出整卷非常高性能的晶體管。由于出色的低電流需求和更好的高頻性能，MOSFET已經(jīng)迅速取代了電子電路中常見(jiàn)的雙極晶體管。為了滿足不斷縮小的集成電路需求，MOSFET尺寸也在不斷變小，然而這也引發(fā)了一些問(wèn)題。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。官方納米壓印可以免稅嗎
IQ Aligner?是EVG的可用于晶圓級(jí)透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)。EV Group納米壓印微流控應(yīng)用
HERCULES ® NIL特征：
全自動(dòng)UV-NIL壓印和低力剝離
**多300毫米的基材
完全模塊化的平臺(tái)，具有多達(dá)八個(gè)可交換過(guò)程模塊（壓印和預(yù)處理）
200毫米/ 300毫米橋接工具能力
全區(qū)域烙印覆蓋
批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu)
支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D
適用于高地形（粗糙）表面
*分辨率取決于過(guò)程和模板
HERCULES ® NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：
晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米
解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）
支持流程：SmartNIL ®
曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2
對(duì)準(zhǔn)：≤±3微米
自動(dòng)分離：支持的
前處理：提供所有預(yù)處理模塊
迷你環(huán)境和氣候控制：可選的
工作印章制作：支持的
EV Group納米壓印微流控應(yīng)用
岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司致力于儀器儀表，是一家其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)致力于為客戶提供良好的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)，一切以用戶需求為中心，深受廣大客戶的歡迎。公司秉持誠(chéng)信為本的經(jīng)營(yíng)理念，在儀器儀表深耕多年，以技術(shù)為先導(dǎo)，以自主產(chǎn)品為重點(diǎn)，發(fā)揮人才優(yōu)勢(shì)，打造儀器儀表良好品牌。岱美儀器技術(shù)服務(wù)秉承“客戶為尊、服務(wù)為榮、創(chuàng)意為先、技術(shù)為實(shí)”的經(jīng)營(yíng)理念，全力打造公司的重點(diǎn)競(jìng)爭(zhēng)力。