關(guān)于WaveOptics       

      WaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球**設(shè)計(jì)商和制造商，衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件。

      諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實(shí)世界之上的數(shù)字圖像。有兩個(gè)關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。

WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請(qǐng)參見下圖。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰，無失真的文本以及穩(wěn)定的圖像。

      WaveOptics技術(shù)旨在用于工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者市場(chǎng)的沉浸式AR體驗(yàn)。該公司的目標(biāo)是，憑借其獨(dú)特的技術(shù)和專業(yè)知識(shí)，其波導(dǎo)將成為所有AR可穿戴設(shè)備中使用的he心光學(xué)組件，以實(shí)現(xiàn)****的制造可擴(kuò)展性和視覺性能，并為眾多應(yīng)用提供多功能性。 EV Group能夠提供混合和單片微透鏡成型工藝。官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印質(zhì)量怎么樣

IQ Aligner UV-NIL特征：

用于光學(xué)元件的微成型應(yīng)用

用于全場(chǎng)納米壓印應(yīng)用

三個(gè)**控制的Z軸，可在印模和基材之間實(shí)現(xiàn)出色的楔形補(bǔ)償

三個(gè)**控制的Z軸，用于壓印抗蝕劑的總厚度變化（TTV）控制

利用柔軟的印章進(jìn)行柔軟的UV-NIL工藝

EVG專有的全自動(dòng)浮雕功能

抵抗分配站集成

粘合對(duì)準(zhǔn)和紫外線粘合功能

IQ Aligner UV-NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：150至300毫米

解析度：≤50 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：柔軟的UV-NIL，鏡片成型

曝光源：汞光源

對(duì)準(zhǔn)：≤±0.5微米

自動(dòng)分離：支持的

前處理：涂層：水坑點(diǎn)膠（可選）

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

奧地利納米壓印有誰在用EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以及用于高 效母版制作的分步重復(fù)系統(tǒng)。

納米壓印應(yīng)用三：連續(xù)性UV納米壓印

EVG770是用于步進(jìn)重復(fù)納米壓印光刻的通用平臺(tái)，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級(jí)光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國(guó)區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識(shí)。我們?cè)敢馀c您共同進(jìn)步。

納米壓印光刻設(shè)備-處理結(jié)果：

新應(yīng)用程序的開發(fā)通常與設(shè)備功能的提高緊密相關(guān)。 EVG的NIL解決方案能夠產(chǎn)生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案，并在顯示器，生物技術(shù)和光子應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。HRI SmartNIL®壓印上的單個(gè)像素的1.AFM圖像壓印全息結(jié)構(gòu)的AFM圖像

資料來源：EVG與SwissLitho

AG合作（歐盟項(xiàng)目SNM）

2.通過熱壓花在PMMA中復(fù)制微流控芯片

資料來源：EVG

3.高縱橫比（7：1）的10 μm柱陣列

由加拿大國(guó)家研究委 員會(huì)提供

4.L / S光柵具有優(yōu)化的殘留層，厚度約為10 nm

資料來源：EVG

5.紫外線成型鏡片300 μm

資料來源：EVG

6.光子晶體用于LED的光提取

多晶硅的蜂窩織構(gòu)化（mc-Si）

由Fraunhofer ISE提供

7.金字塔形結(jié)構(gòu)50 μm

資料來源：EVG

8.**小尺寸的光模塊晶圓級(jí)封裝

資料來源：EVG

9.光子帶隙傳感器光柵

資料來源：EVG（歐盟Saphely項(xiàng)目）

10.在強(qiáng)光照射下對(duì)HRISmartNIL®烙印進(jìn)行完整的晶圓照相

資料來源：EVG EV Group 提供完整的UV 紫外光納米壓印光刻（UV-NIL）產(chǎn)品線。

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。

EVG的HERCULES ® NIL產(chǎn)品系列

HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL

® UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米

對(duì)于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術(shù)

HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES

NIL基于模塊化平臺(tái)，將EVG專有的SmartNIL壓印技術(shù)與清潔，抗蝕劑涂層和烘烤預(yù)處理步驟相結(jié)合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務(wù)”，將裸露的晶圓裝載到工具中，然后將經(jīng)過完全處理的納米結(jié)構(gòu)晶圓退回。 EVG ? 7200是自動(dòng)SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。熱壓印納米壓印推薦產(chǎn)品

HERCULES ? NIL是完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印質(zhì)量怎么樣

EVG ® 510 HE熱壓印系統(tǒng)

應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn)

EVG510 HE半自動(dòng)熱壓印系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于對(duì)熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。

EVG ® 510 HE特征：

用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用

自動(dòng)化壓花工藝

EVG專有的**對(duì)準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印

完全由軟件控制的流程執(zhí)行

閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)

外部浮雕和冷卻站 官方授權(quán)經(jīng)銷納米壓印質(zhì)量怎么樣

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司主營(yíng)品牌有岱美儀器技術(shù)服務(wù)，發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大，該公司其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè)，一直“以人為本，服務(wù)于社會(huì)”的經(jīng)營(yíng)理念;“誠(chéng)守信譽(yù)，持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。以滿足顧客要求為己任；以顧客永遠(yuǎn)滿意為標(biāo)準(zhǔn)；以保持行業(yè)優(yōu)先為目標(biāo)，提供***的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測(cè)試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來，一直堅(jiān)持走正規(guī)化、專業(yè)化路線，得到了廣大客戶及社會(huì)各界的普遍認(rèn)可與大力支持。