為了優(yōu)化工藝鏈,HERCULES NIL中包括多次使用的軟印章的制造,這是大批量生產的基石,不需要額外的壓印印章制造設備。作為一項特殊功能,該工具可以升級為具有ISO 3 *功能的微型環(huán)境,以確保比較低的缺 陷率和比較高質量的原版復制。
通過為大批量生產提供完整的NIL解決方案,HERCULES NIL增強了EVG在***積NIL設備解決方案中的領導地位。
*根據ISO 14644
HERCULES ® NIL特征:
批量生產**小40 nm *或更小的結構
聯(lián)合預處理(清潔/涂層/烘烤/寒意)和SmartNIL ®
體積驗證的壓印技術,具有出色的復制保真度
全自動壓印和受控的低力分離,可很大程度地重復使用工作印章
包括工作印章制造能力
高功率光源,固化時間**快
優(yōu)化的模塊化平臺可實現(xiàn)高吞吐量
*分辨率取決于過程和模板 EVG ? 610也可以設計成紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)。湖北納米壓印推薦廠家
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
®的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。
EVG的HERCULES ® NIL產品系列
HERCULES ® NIL完全集成SmartNIL
® UV-NIL系統(tǒng)達200毫米
對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案,具有EVG's專有SmartNIL ®印跡技術
HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案,適用于比較大200 mm的晶圓,是EVG的NIL產品組合的***成員。HERCULES
NIL基于模塊化平臺,將EVG專有的SmartNIL壓印技術與清潔,抗蝕劑涂層和烘烤預處理步驟相結合。這將HERCULES NIL變成了“一站式服務”,將裸露的晶圓裝載到工具中,然后將經過完全處理的納米結構晶圓退回。 原裝進口納米壓印試用IQ Aligner UV-NIL是自動化紫外線納米壓印光刻系統(tǒng),是用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印的系統(tǒng)。
客戶示范
■工藝開發(fā)
■材料測試
■與合作伙伴共同研發(fā)
■資助項目
■小批量試生產
■IP管理
■過程技術許可證
■流程培訓
→世界前列的潔凈室基礎設施
→**的設備
→技術**
→**計量
→工藝知識
→應用知識
→與NIL的工作印模材料和表面化學有關的化學專業(yè)知識
新應用程序的開發(fā)通常與設備功能的提高緊密相關。 EVG的NIL解決方案能夠產生具有納米分辨率的多種不同尺寸和形狀的圖案,并在顯示器,生物技術和光子應用中實現(xiàn)了許多新的創(chuàng)新。
岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
納米壓印應用三:連續(xù)性UV納米壓印
EVG770是用于步進重復納米壓印光刻的通用平臺,可用于有效地進行母版制作或對基板上的復雜結構進行直接圖案化。這種方法允許從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結合,分步重復刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商,歡迎各位聯(lián)系我們,探討納米壓印光刻的相關知識。我們愿意與您共同進步。
EVG的熱壓印是一種經濟高 效且靈活的制造技術,具有非常高的復制精度,可用于**小50 nm的特征尺寸。
EVG ® 7200 LA大面積SmartNIL
® UV納米壓印光刻系統(tǒng)
用于大面積****的共形納米壓印光刻。
EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專有且經過量證明的SmartNIL技術,將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550 mm x 650 mm)面板尺寸的基板。對于不能減小尺寸的顯示器,線柵偏振器,生物技術和光子元件等應用,至關重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經濟有效的方法,因為它不受光學系統(tǒng)的限制,并且可以為**小的結構提供比較好的圖案保真度。
SmartNIL利用非常強大且可控的加工工藝,提供了低至40 nm *的出色保形壓印結果。憑借獨特且經過驗證的設備功能(包括****的易用性)以及高水平的工藝專業(yè)知識,EVG通過將納米壓印提升到一個新的水平來滿足行業(yè)需求。
*分辨率取決于過程和模板 EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA是自動化的全場域納米壓印解決方案,適用于第3代基材。遼寧納米壓印推薦型號
EVG ? 720是自動SmartNIL ? UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。湖北納米壓印推薦廠家
納米壓印微影技術可望優(yōu)先導入LCD面板領域原本計劃應用在半導體生產制程的納米壓印微影技術(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術。據ETNews報導,南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認NIL設備實際圖樣形成能力,直接參訪海外NIL設備廠。該制程研發(fā)小組透露,若引進相關設備,將可提升面板性能。并已展開具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機,像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經過蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產成本。偏光膜會吸收部分光線降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線較多,較難確保開口率(ApertureRatio)。湖北納米壓印推薦廠家
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