F54自動化薄膜測繪Filmetrics F54 系列的產品能以一個電動R-Theta 平臺自動移動到選定的測量點以每秒測繪兩個點的速度快速的測繪薄膜厚度, 樣品直徑達450毫米

可選擇數十種內建之同心圓,矩形,或線性圖案模式,或自行建立無數量限制之測量點.*需具備基本電腦技能的任何人可在數分鐘內自行建立配方

F54 自動化薄膜測繪只需聯結設備到您運行Windows?系統(tǒng)計算機的USB端口, 可在幾分鐘輕松設置

不同的型號主要是由厚度和波長范圍作為區(qū)別。通常較薄的膜需要較短波長作測量(如F54-UV) 用來測量較薄的膜,而較長的波長可以用來測量更厚，更粗糙，或更不透明的薄膜 F30測厚范圍：15nm-70μm；波長：380-1050nm。光刻膠膜厚儀有哪些應用

F30 系列監(jiān)控薄膜沉積，**強有力的工具F30 光譜反射率系統(tǒng)能實時測量沉積率、沉積層厚度、光學常數 (n 和 k 值) 和半導體以及電介質層的均勻性。

樣品層分子束外延和金屬有機化學氣相沉積: 可以測量平滑和半透明的，或輕度吸收的薄膜。 這實際上包括從氮化鎵鋁到鎵銦磷砷的任何半導體材料。

各項優(yōu)點:極大地提高生產力低成本 —幾個月就能收回成本A精確 — 測量精度高于 ±1%快速 — 幾秒鐘完成測量非侵入式 — 完全在沉積室以外進行測試易于使用 — 直觀的 Windows? 軟件幾分鐘就能準備好的系統(tǒng)

型號厚度范圍*波長范圍

F30:15nm-70μm 380-1050nm

F30-EXR:15nm - 250μm 380-1700nm

F30-NIR:100nm - 250μm 950-1700nm

F30-UV:3nm-40μm 190-1100nm

F30-UVX:3nm - 250μm 190-1700nm

F30-XT:0.2μm - 450μm1440-1690nm 白光干涉膜厚儀研發(fā)可以用嗎F50-XT測厚范圍：0.2μm-450μm；波長：1440-1690nm。

備用光源：

LAMP-TH1-5PAK：F10、F20、F30、F40、F50、和 F60 系統(tǒng)的非紫外光源。 5個/盒。1200 小時平均無故障。

LAMP-TH：F42F42 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。

LAMP-THF60：F60 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。

LAMP-THF80：F80 系統(tǒng)的光源。 1000 小時平均無故障。

LAMP-D2-L10290：L10290 氘光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。

LAMP-TH-L10290：L10290 鎢鹵素光源。 2007年到2014年F20-UV的使用者。

LAMP-D2-***T2：***T2光源需更換氘燈, 而鹵素燈光源需更換使用LAMP-TH1-5PAK.

電介質成千上萬的電解質薄膜被用于光學，半導體，以及其它數十個行業(yè), 而Filmetrics的儀器幾乎可以測量所有的薄膜。常見的電介質有:二氧化硅 – **簡單的材料之一, 主要是因為它在大部分光譜上的無吸收性 (k=0)， 而且非常接近化學計量 (就是說，硅：氧非常接近 1:2)。 受熱生長的二氧化硅對光譜反應規(guī)范，通常被用來做厚度和折射率標準。 Filmetrics能測量3nm到1mm的二氧化硅厚度。氮化硅 – 對此薄膜的測量比很多電介質困難，因為硅：氮比率通常不是3：4, 而且折射率一般要與薄膜厚度同時測量。 更麻煩的是，氧常常滲入薄膜，生成一定程度的氮氧化硅，增大測量難度。 但是幸運的是，我們的系統(tǒng)能在幾秒鐘內 “一鍵” 測量氮化硅薄膜完整特征!F50-NIR測厚范圍：100nm-250μm；波長：950-1700nm。

    其可測量薄膜厚度在1nm到1mm之間，測量精度高達1埃，測量穩(wěn)定性高達，測量時間只需一到二秒,并有手動及自動機型可選?？蓱妙I域包括：生物醫(yī)學（Biomedical）,液晶顯示(Displays),硬涂層(Hardcoats),金屬膜(Metal),眼鏡涂層(Ophthalmic),聚對二甲笨(Parylene),電路板(PCBs&PWBs),多孔硅(PorousSilicon),光阻材料(ThickResist),半導體材料(Semiconductors),太陽光伏(Solarphotovoltaics),真空鍍層(VacuumCoatings),圈筒檢查(Webinspectionapplications)等。通過Filmetrics膜厚測量儀*新反射式光譜測量技術,*多4層透明薄膜厚度、n、k值及粗糙度能在數秒鐘測得。其應用***，例如:半導體工業(yè):光阻、氧化物、氮化物。LCD工業(yè):間距(cellgaps)，ito電極、polyimide保護膜。光電鍍膜應用:硬化鍍膜、抗反射鍍膜、過濾片。極易操作、快速、準確、機身輕巧及價格便宜為其主要優(yōu)點，Filmetrics提供以下型號以供選擇:F20:這簡單入門型號有三種不同波長選擇(由220nm紫外線區(qū)至1700nm近紅外線區(qū))為任意攜帶型，可以實現反射、膜厚、n、k值測量。F30:這型號可安裝在任何真空鍍膜機腔體外的窗口?？蓪崟r監(jiān)控長晶速度、實時提供膜厚、n、k值。并可切定某一波長或固定測量時間間距。成功測量光刻膠要面對一些獨特的挑戰(zhàn)， 而 Filmetrics 自動測量系統(tǒng)成功地解決這些問題。臺積電膜厚儀價格怎么樣

F3-s980 是波長為980奈米的版本，是為了針對成本敏銳的應用而設計。光刻膠膜厚儀有哪些應用

F10-AR易于使用而且經濟有效地分析減反涂層和鏡頭上的硬涂層F10-AR 是測試眼科減反涂層設計的儀器。 雖然價格**低于當今絕大多數同類儀器，應用幾項技術， F10-AR 使線上操作人員經過幾分鐘的培訓，就可以進行厚度測量。

在用戶定義的任何波長范圍內都能進行比較低、比較高和平均反射測試。

我們有專門的算法對硬涂層的局部反射失真進行校正。 我們獨有的 AutoBaseline 能極大地增加基線間隔，提供比其它光纖探頭反射儀高出五倍的精確度。

利用可選的 UPG-F10-AR-HC 軟件升級能測量 0.25-15um 的硬涂層厚度。 在減反層存在的情況下也能對硬涂層厚度進行測量。 光刻膠膜厚儀有哪些應用

岱美儀器技術服務（上海）有限公司主要經營范圍是儀器儀表，擁有一支專業(yè)技術團隊和良好的市場口碑。公司業(yè)務分為磁記錄，半導體，光通訊生產，測試儀器的批發(fā)等，目前不斷進行創(chuàng)新和服務改進，為客戶提供良好的產品和服務。公司從事儀器儀表多年，有著創(chuàng)新的設計、強大的技術，還有一批**的專業(yè)化的隊伍，確保為客戶提供良好的產品及服務。岱美儀器技術服務秉承“客戶為尊、服務為榮、創(chuàng)意為先、技術為實”的經營理念，全力打造公司的重點競爭力。