我們可以根據(jù)您的需求提供進(jìn)行優(yōu)化的多用途系統(tǒng)。
我們的掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)設(shè)計用于從掩模對準(zhǔn)到鍵合對準(zhǔn)的快速簡便轉(zhuǎn)換。此外,可以使用用于壓印光刻的可選工具集,例如UV-納米壓印光刻,熱壓印或微接觸印刷。所有系統(tǒng)均支持原位對準(zhǔn)驗證軟件,以提高手動操作系統(tǒng)的對準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG620 NT / EVG6200 NT可從手動到自動基片處理,實現(xiàn)現(xiàn)場升級。此外,所有掩模對準(zhǔn)器都支持EVG專有的NIL技術(shù)。如果您需要納米壓印設(shè)備,請訪問我們的官網(wǎng),或者直接聯(lián)系我們。 除了光刻機(jī)之外,岱美還代理了EVG的鍵合機(jī)等設(shè)備。安徽光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)
EVG增強(qiáng)對準(zhǔn):全電動頂部和底部分離場顯微鏡支持實時,大間隙,晶圓平面或紅外對準(zhǔn),在可編程位置自動定位。確保**/佳圖形對比度,并對明場和暗場照明進(jìn)行程序控制。先進(jìn)的模式識別算法,自動原點功能,合成對準(zhǔn)鍵模式導(dǎo)入和培訓(xùn)可確保高度可重復(fù)的對準(zhǔn)結(jié)果。曝光光學(xué):提供不同配置的曝光光學(xué)系統(tǒng),旨在實現(xiàn)任何應(yīng)用的**/大靈活性。汞燈曝光光學(xué)系統(tǒng)針對150,200和300 mm基片進(jìn)行了優(yōu)化,可與各種濾光片一起用于窄帶曝光要求,例如i-,g-和h-線濾光片,甚至還有深紫外線。 安徽光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)EVG光刻機(jī)關(guān)注未來市場趨勢 - 例如光子學(xué) 、光學(xué)3D傳感- 并為這些應(yīng)用開發(fā)新的方案和調(diào)整現(xiàn)有的解決方案。
IQ Aligner特征:
晶圓/基板尺寸從小到200 mm /
8''
由于外部晶圓楔形測量,實現(xiàn)了非接觸式接近模式
增強(qiáng)的振動隔離,有效減少誤差
各種對準(zhǔn)功能提高了過程靈活性
跳動控制對準(zhǔn)功能,提高了效率
多種晶圓尺寸的易碎,薄或翹曲的晶圓處理
高地表形貌晶圓加工經(jīng)驗
手動基板裝載能力
遠(yuǎn)程技術(shù)支持和SECS / GEM兼容性
IQ Aligner附加功能:
紅外對準(zhǔn)–透射和/或反射
IQ Aligner技術(shù)數(shù)據(jù):
楔形補(bǔ)償:全自動軟件控制
非接觸式
先進(jìn)的對準(zhǔn)功能:自動對準(zhǔn);大間隙對準(zhǔn);跳動控制對準(zhǔn);動態(tài)對準(zhǔn)
IQ Aligner®NT自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)
特色:IQ Aligner®在**/高吞吐量NT經(jīng)過優(yōu)化零協(xié)助非接觸式近程處理。
技術(shù)數(shù)據(jù):IQ Aligner NT是用于大批量應(yīng)用的生產(chǎn)力**/高,技術(shù)**/先進(jìn)的自動掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)。該系統(tǒng)具有**/先進(jìn)的打印間隙控制和零輔助雙尺寸晶圓處理能力,可完全滿足大批量制造(HVM)的需求。與EVG的上一代IQ
Aligner系統(tǒng)相比,它的吞吐量提高了2倍,對準(zhǔn)精度提高了2倍,是所有掩模對準(zhǔn)器中**/高的吞吐量。IQ Aligner NT超越了對后端光刻應(yīng)用**苛刻的要求,同時與競爭性系統(tǒng)相比,其掩模成本降低了30%,而競爭系統(tǒng)超出了掩模對準(zhǔn)工具所支持的**/高吞吐量。 HERCULES平臺是“一站式服務(wù)”平臺。
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的旋轉(zhuǎn)涂層模塊-旋轉(zhuǎn)器參數(shù)
轉(zhuǎn)速:**/高10 k rpm
加速速度:**/高10 k rpm
噴涂模塊-噴涂產(chǎn)生
超聲波霧化噴嘴/高粘度噴嘴
開發(fā)模塊-分配選項
水坑顯影/噴霧顯影
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)附加模塊選項:
預(yù)對準(zhǔn):機(jī)械
系統(tǒng)控制參數(shù):
操作系統(tǒng):Windows
文件共享和備份解決方案/無限制程序和參數(shù)/離線程序編輯器
靈活的流程定義/易于拖放的程序編程
并行處理多個作業(yè)/實時遠(yuǎn)程訪問,診斷和故障排除
多語言用戶GUI和支持:CN,DE,F(xiàn)R,IT,JP,KR
EVG?620 NT / EVG?6200 NT 掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)(自動化和半自動化)支持的晶圓尺寸 :150 mm / 200 mm。安徽光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)
HERCULES的橋接工具系統(tǒng)可對多種尺寸的晶圓進(jìn)行易碎,薄或翹曲的晶圓處理。安徽光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)
隨著儀器儀表和計算機(jī)的完美結(jié)合,為了更好的滿足人們對精神世界的需求,體驗多維世界給人們帶來的**,儀器儀表的虛擬化開始發(fā)展。身臨其境接受客觀實物,給美又增添了一絲創(chuàng)意。隨著網(wǎng)絡(luò)消費的不斷遞增,而互聯(lián)網(wǎng)的的商業(yè)價值不斷被挖掘出來,呈爆發(fā)式增長,傳統(tǒng)的營銷模式將逐步被取代。有限責(zé)任公司企業(yè)要抓住機(jī)遇,融入到互聯(lián)網(wǎng)發(fā)展的行業(yè)中,為行業(yè)的發(fā)展提高競爭力。隨著手機(jī)移動網(wǎng)絡(luò)的消費潛力不斷隱現(xiàn),消費者利用手機(jī)消費的頻率和份額逐年遞增。移動互聯(lián)網(wǎng)所隱藏的商業(yè)價值被更多地挖掘出來之后,各種傳統(tǒng)行業(yè)(包括磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)行業(yè))的移動網(wǎng)上平臺相繼誕生。中國其他型正面臨百年未有之大變局,行業(yè)行家認(rèn)為,中美貿(mào)易戰(zhàn)不會有終點,中美關(guān)系時好時壞將成為常態(tài),儀器儀表行業(yè)無法排除大局勢的影響,且不要把問題聚焦在關(guān)稅上。中國經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展得益于WTO框架下的全球化分工;現(xiàn)在中國制造的競爭力在于工業(yè)門類齊全、供應(yīng)鏈完整、供應(yīng)鏈的高度專業(yè)和細(xì)分。安徽光刻機(jī)技術(shù)服務(wù)
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營品牌有岱美儀器技術(shù)服務(wù),發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊不斷壯大,該公司其他型的公司。岱美儀器技術(shù)服務(wù)是一家有限責(zé)任公司企業(yè),一直“以人為本,服務(wù)于社會”的經(jīng)營理念;“誠守信譽(yù),持續(xù)發(fā)展”的質(zhì)量方針。公司擁有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊,具有磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測試儀器的批發(fā)等多項業(yè)務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)自成立以來,一直堅持走正規(guī)化、專業(yè)化路線,得到了廣大客戶及社會各界的普遍認(rèn)可與大力支持。