IQ Aligner®：用于晶圓級透鏡成型和堆疊的高精度UV壓印系統(tǒng)

■用于光學元件的微成型應用

■用于全場納米壓印應用

■三個**控制的Z軸，用于控制壓印光刻膠的總厚度變化（TTV），并在壓模和基材之間實現(xiàn)出色的楔形補償

■粘合對準和紫外線粘合功能

紫外線壓印_紫外線固化

印章

防紫外線基材

附加印記壓印納米結構分離印記

用紫外線可固化的光刻膠旋涂或滴涂基材。隨后，將壓模壓入光刻膠并在仍然接觸的情況下通過UV光交聯(lián)。

μ-接觸印刷

軟印章

基板上的材料

領取物料，物料轉(zhuǎn)移，刪除印章

SmartNIL 非常適合對具有復雜納米結構微流控芯片進行高精度圖案化，用在下一代藥 物研究和醫(yī)學診斷設備生產(chǎn)。山東實驗室納米壓印

EVG ® 6200 NT特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形補償序列

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

EVG ® 6200 NT附加功能：

鍵對準

紅外對準

智能NIL ®

μ接觸印刷技術數(shù)據(jù)

晶圓直徑（基板尺寸）

標準光刻：75至200 mm

柔軟的UV-NIL：75至200毫米

SmartNIL ®：**多至150mm

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：軟UV-NIL＆SmartNIL

®

曝光源：汞光源或紫外線LED光源

對準：軟NIL：≤±0.5 μm；SmartNIL ®：≤±3微米

自動分離：柔紫外線NIL：不支持；SmartNIL

®：支持

工作印章制作：柔軟的UV-NIL：外部；SmartNIL ®：支持

遼寧納米壓印供應商家EVG的納米壓印光刻（NIL） - SmartNIL ? 是用于大批量生產(chǎn)的大面積軟UV納米壓印光刻工藝。

    該公司的高科技粘合劑以功能與可靠性聞名于世。根據(jù)客戶的專門需求，公司對這些聚合物作出調(diào)整，使其具備其它特征。它們極其適合工業(yè)環(huán)境，在較短的生產(chǎn)周期時間內(nèi)粘合各種微小的元件。此外，DELO紫外線LED固化設備與點膠閥的可靠度十分杰出。關于德路德路(DELO)是世界前列的工業(yè)粘合劑制造商，總部位于德國慕尼黑附近的Windach。在美國、中國、新加坡及日本均設有子公司。2019財政年，公司的780名員工創(chuàng)造了。該公司產(chǎn)品在全球范圍內(nèi)廣泛應用于汽車、消費類電子產(chǎn)品與工業(yè)電子產(chǎn)品。幾乎每一部智能手機與超過一半的汽車上都使用該公司產(chǎn)品。DELO的客戶包括博世、戴姆勒、華為、歐司朗、西門子以及索尼等。關于EVGroup(EVG)EV集團(EVG)是為生產(chǎn)半導體、微機電系統(tǒng)(MEMS)、化合物半導體、功率器件以及納米技術器件制造提供設備與工藝解決方案的**供應商。該公司主要產(chǎn)品包括晶圓鍵合、薄晶圓處理、光刻/納米壓印光刻技術（NIL）與計量設備，，以及涂膠機、清洗機與檢測系統(tǒng)。EV集團創(chuàng)辦于1980年，可為遍及全球的眾多客戶與合作伙伴提供各類服務與支持。

HERCULES ® NIL特征：

全自動UV-NIL壓印和低力剝離

**多300毫米的基材

完全模塊化的平臺，具有多達八個可交換過程模塊（壓印和預處理）

200毫米/ 300毫米橋接工具能力

全區(qū)域烙印覆蓋

批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結構

支持各種結構尺寸和形狀，包括3D

適用于高地形（粗糙）表面

*分辨率取決于過程和模板

HERCULES ® NIL技術數(shù)據(jù)：

晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米

解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝）

支持流程：SmartNIL ®

曝光源：大功率LED（i線）> 400 mW /cm2

對準：≤±3微米

自動分離：支持的

前處理：提供所有預處理模塊

迷你環(huán)境和氣候控制：可選的

工作印章制作：支持的

步進重復納米壓印光刻可以從比較大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復制模板。

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機構。EV Group專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。

EVG610特征：

頂部和底部對準能力

高精度對準臺

自動楔形誤差補償機制

電動和程序控制的曝光間隙

支持***的UV-LED技術

**小化系統(tǒng)占地面積和設施要求

分步流程指導

遠程技術支持

多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權限，不同的用戶界面語言）

敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換

臺式或帶防震花崗巖臺的單機版

附加功能：

鍵對準

紅外對準

納米壓印光刻 

μ接觸印刷

EVG的納米壓印設備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機以及用于高 效母版制作的分步重復系統(tǒng)。湖北納米壓印聯(lián)系電話

EVG620 NT支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，以及背面對準選項。山東實驗室納米壓印

SmartNIL是行業(yè)**的NIL技術，可對小于40 nm *的極小特征進行圖案化，并可以對各種結構尺寸和形狀進行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術相結合，可實現(xiàn)****的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴展性和易于維護的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結構的低成本，大批量替代光刻技術。

*分辨率取決于過程和模板

如果需要詳細的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術服務有限公司。 山東實驗室納米壓印

岱美儀器技術服務（上海）有限公司專注技術創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā)，發(fā)展規(guī)模團隊不斷壯大。一批專業(yè)的技術團隊，是實現(xiàn)企業(yè)戰(zhàn)略目標的基礎，是企業(yè)持續(xù)發(fā)展的動力。公司以誠信為本，業(yè)務領域涵蓋磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，我們本著對客戶負責，對員工負責，更是對公司發(fā)展負責的態(tài)度，爭取做到讓每位客戶滿意。公司深耕磁記錄，半導體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)，正積蓄著更大的能量，向更廣闊的空間、更寬泛的領域拓展。