我們的研發(fā)實(shí)力。
EVG已經(jīng)與研究機(jī)構(gòu)合作超過(guò)35年,讓我們深入了解他們的獨(dú)特需求。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)工具提供卓/越的技術(shù)和最/大的靈活性,使大學(xué)、研究機(jī)構(gòu)和技術(shù)開(kāi)發(fā)合作伙伴能夠參與多個(gè)研究項(xiàng)目和應(yīng)用項(xiàng)目。此外,研發(fā)設(shè)備與EVG的核心技術(shù)平臺(tái)無(wú)縫集成,這些平臺(tái)涵蓋從研發(fā)到小規(guī)模和大批量生產(chǎn)的整個(gè)制造鏈。研發(fā)和全/面生產(chǎn)系統(tǒng)之間的軟件和程序兼容性使研究人員能夠?qū)⑵淞鞒踢w移到批量生產(chǎn)環(huán)境。以客戶(hù)的需求為導(dǎo)向,研發(fā)才具有價(jià)值,也是我們不斷前進(jìn)的動(dòng)力。 HERCULES可以配置成處理彎曲,翹曲,變薄或非SEMI標(biāo)準(zhǔn)形狀的晶片和基片。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)美元價(jià)格
EVG ® 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))
特色:EVG ® 6200 NT掩模對(duì)準(zhǔn)器為光學(xué)雙面光刻的多功能工具和晶片尺寸高達(dá)200毫米。
技術(shù)數(shù)據(jù):EVG6200 NT以其自動(dòng)化靈活性和可靠性而著稱(chēng),可在最小的占位面積上提供最/先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù),并具有最/高的產(chǎn)能,先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和優(yōu)化的總擁有成本。操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。EVG6200 NT或完全安裝的EVG6200 NT Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)有半自動(dòng)或自動(dòng)配置,并配有集成的振動(dòng)隔離功能,可在廣/泛的應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)出色的曝光效果,例如薄和厚光刻膠的曝光,深腔和類(lèi)似地形的圖案,以及薄而易碎的材料(例如化合物半導(dǎo)體)的加工。此外,半自動(dòng)和全自動(dòng)系統(tǒng)配置均支持EVG專(zhuān)有的SmartNIL技術(shù)。 山西光刻機(jī)推薦廠家新型的EVG120帶有通用和全自動(dòng)光刻膠處理工具,能夠處理各種形狀和尺寸達(dá)200 mm / 8“的基片。
EVG ® 101--先進(jìn)的光刻膠處理系統(tǒng)
主要應(yīng)用:研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)中的單晶圓光刻膠加工
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)在單腔設(shè)計(jì)中執(zhí)行研發(fā)類(lèi)型的工藝,與EVG的自動(dòng)化系統(tǒng)完全兼容。EVG101光刻膠處理機(jī)支持最/大300 mm的晶圓,并可配置用于旋涂或噴涂以及顯影應(yīng)用。通過(guò)EVG先進(jìn)的OmniSpray涂層技術(shù),在互連技術(shù)的3D結(jié)構(gòu)晶圓上獲得了光致光刻膠或聚合物的保形層。這確保了珍貴的高粘度光刻膠或聚合物的材料消耗降低,同時(shí)提高了均勻性和光刻膠鋪展選擇。這大大地節(jié)省了用戶(hù)的成本。
EVG ® 620 NT 掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)(半自動(dòng)/自動(dòng))
特色:EVG ® 620 NT提供國(guó)家的本領(lǐng)域掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)在最小化的占位面積,支持高達(dá)150毫米晶圓尺寸。
技術(shù)數(shù)據(jù):EVG620 NT以其多功能性和可靠性而著稱(chēng),在最小的占位面積上結(jié)合了先進(jìn)的對(duì)準(zhǔn)功能和最/優(yōu)化的總體擁有成本,提供了最/先進(jìn)的掩模對(duì)準(zhǔn)技術(shù)。它是光學(xué)雙面光刻的理想工具,可提供半自動(dòng)或自動(dòng)配置以及可選的全覆蓋Gen 2解決方案,以滿(mǎn)足大批量生產(chǎn)要求和制造標(biāo)準(zhǔn)。擁有操作員友好型軟件,最短的掩模和工具更換時(shí)間以及高/效的全球服務(wù)和支持,使它成為任何制造環(huán)境的理想解決方案。 岱美是EVG光刻機(jī)在中國(guó)的代理商,提供本地化的優(yōu)質(zhì)服務(wù)。
EVG ® 105—晶圓烘烤模塊
設(shè)計(jì)理念:?jiǎn)螜C(jī)EVG ® 105烘烤模塊是專(zhuān)為軟或后曝光烘烤過(guò)程而設(shè)計(jì)。
特點(diǎn):可以在EVG105烘烤模塊上執(zhí)行軟烘烤,曝光后烘烤和硬烘烤過(guò)程。受控的烘烤環(huán)境可確保均勻蒸發(fā)。可編程的接近銷(xiāo)可提供對(duì)光刻膠硬化過(guò)程和溫度曲線(xiàn)的最/佳控制。EVG105烘烤模塊可以同時(shí)處理300 mm的晶圓尺寸或4個(gè)100 mm的晶圓。
特征
獨(dú)立烘烤模塊
晶片尺寸最/大為300毫米,或同時(shí)最多四個(gè)100毫米晶片
溫度均勻性≤±1°C @ 100°C,最/高250°C烘烤溫度
用于手動(dòng)和安全地裝載/卸載晶片的裝載銷(xiāo)
烘烤定時(shí)器
基材真空(直接接觸烘烤)
N 2吹掃和近程烘烤0-1 mm距離晶片至加熱板可選
不規(guī)則形狀的基材
技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(基板尺寸):高達(dá)300毫米
烤盤(pán):
溫度范圍:≤250°C
手動(dòng)將升降桿調(diào)整到所需的接近間隙
所有系統(tǒng)均支持原位對(duì)準(zhǔn)驗(yàn)證的軟件,可以提高手動(dòng)操作系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)精度和可重復(fù)性。EVG620 NT光刻機(jī)代理價(jià)格
EVG通過(guò)不斷開(kāi)發(fā)掩模對(duì)準(zhǔn)器來(lái)為這些領(lǐng)域做出巨大的貢獻(xiàn),以提高最重要的光刻技術(shù)的水平。掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)美元價(jià)格
EVG101光刻膠處理系統(tǒng)的特征:
晶圓尺寸可達(dá)300毫米;
自動(dòng)旋轉(zhuǎn)或噴涂或通過(guò)手動(dòng)晶圓加載/卸載進(jìn)行顯影;
利用成熟的模塊化設(shè)計(jì)和標(biāo)準(zhǔn)化軟件,快速輕松地將過(guò)程從研究轉(zhuǎn)移到生產(chǎn);
注射器分配系統(tǒng),用于利用小體積的光刻膠,包括高粘度光刻膠;
占地面積小,同時(shí)保持較高的人身和流程安全性;
多用戶(hù)概念(無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序,可分配的訪問(wèn)權(quán)限,不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言)。
選項(xiàng)功能:
使用OmniSpray®涂層技術(shù)對(duì)高形晶圓表面進(jìn)行均勻涂層;
蠟和環(huán)氧涂層,用于后續(xù)粘合工藝;
玻璃旋涂(SOG)涂層。
掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)美元價(jià)格
岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司發(fā)展規(guī)模團(tuán)隊(duì)不斷壯大,現(xiàn)有一支專(zhuān)業(yè)技術(shù)團(tuán)隊(duì),各種專(zhuān)業(yè)設(shè)備齊全。專(zhuān)業(yè)的團(tuán)隊(duì)大多數(shù)員工都有多年工作經(jīng)驗(yàn),熟悉行業(yè)專(zhuān)業(yè)知識(shí)技能,致力于發(fā)展岱美儀器技術(shù)服務(wù)的品牌。公司不僅僅提供專(zhuān)業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目,經(jīng)相關(guān)部門(mén)批準(zhǔn)后方可開(kāi)展經(jīng)營(yíng)活動(dòng)】,同時(shí)還建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶(hù)提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。誠(chéng)實(shí)、守信是對(duì)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)要求,也是我們做人的基本準(zhǔn)則。公司致力于打造高品質(zhì)的磁記錄,半導(dǎo)體,光通訊生產(chǎn),測(cè)試儀器的批發(fā)。