輪廓儀的性能 

測量模式

移相干涉（PSI），白光垂直掃描干涉（VSI），單色光垂直掃描干涉（CSI）

樣 品 臺

150mm/200mm/300mm 樣品臺（可選配）

XY 平移：±25mm/150mm/200mm/300mm，傾斜：±5°

可選手動/電動樣品臺

CCD 相機(jī)像素

標(biāo)配：1280×960

視場范圍

560×750um（10×物鏡）

具體視場范圍取決于所配物鏡及 CCD 相機(jī)

光學(xué)系統(tǒng)

同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)

光 源

高 效 LED

Z 方向聚焦 80mm 手動聚焦（可選電動聚焦）

Z 方向掃描范圍 精密 PZT 掃描(可選擇高精密機(jī)械掃描，拓展達(dá) 10mm )

縱向分辨率 ＜0.1nm

RMS 重復(fù)性* 0.005nm，1σ

臺階測量** 準(zhǔn)確度 ≤0.75％；重復(fù)性 ≤0.1%，1σ

橫向分辨率 ≥0.35um（100 倍物鏡）

檢測速度 ≤ 35um/sec , 與所選的 CCD  幾何特征（關(guān)鍵孔徑尺寸，曲率半徑，特征區(qū)域的面積和集體，特征圖形的位置和數(shù)量等）。**輪廓儀國內(nèi)用戶

輪廓儀在集成電路的應(yīng)用

封**ump測量  

視場：72*96（um）物鏡：干涉50X 檢測位置：樣品局部

面減薄表面粗糙度分析

封裝：300mm硅片背面減薄表面粗糙度分析  面粗糙度分析：2D, 3D顯示；線粗糙度分析：Ra, Ry，Rz，…

器件多層結(jié)構(gòu)臺階高  MEMS 器件多層結(jié)構(gòu)分析、工藝控制參數(shù)分析

激光隱形切割工藝控制  世界***的能夠?qū)崿F(xiàn)激光槽寬度、深度自動識別和數(shù)據(jù)自動生成，**地縮

短了激光槽工藝在線檢測的時間，避免人工操作帶來的一致性，可靠性問題

歡迎咨詢。 NanoX-8000輪廓儀值得買支持連接MES系統(tǒng)，數(shù)據(jù)可導(dǎo)入SPC。

輪廓儀的主要客戶群體

300mm集成電路技術(shù)封裝生產(chǎn)線檢測

集成電路工藝技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

國家重點實驗室

高 效太陽能電池技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化

MEMS技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化

新型顯示技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化

超高精密表面工程技術(shù)

輪廓儀是一種兩坐標(biāo)測量儀器，儀器傳感器相對被測工件表而作勻速滑行，傳感器的觸針感受到被測表而的幾何變化，在X和Z方向分別采樣，并轉(zhuǎn)換成電信號，該電信號經(jīng)放大和處理，再轉(zhuǎn)換成數(shù)字信號儲存在計算機(jī)系統(tǒng)的存儲器中，計算機(jī)對原始表而輪廓進(jìn)行數(shù)字濾波，分離掉表而粗糙度成分后再進(jìn)行計算，測量結(jié)果為計算出的符介某種曲線的實際值及其離基準(zhǔn)點的坐標(biāo)，或放大的實際輪廓曲線，測量結(jié)果通過顯示器輸出，也可由打印機(jī)輸出。（來自網(wǎng)絡(luò)）

關(guān)于三坐標(biāo)測量輪廓度及粗糙度

  三坐標(biāo)測量機(jī)是不能測量粗糙度的，至于測量零件的表面輪廓 ，要視三坐標(biāo)的測量精度及零件表面輪廓度的要求了，如果你的三坐標(biāo)測量機(jī)精度比較高，但零件輪廓度要求不可，是可以用三坐標(biāo)來代替的。一般三坐標(biāo)精度都在2-3um左右，而輪廓儀都在2um以內(nèi)，還有就是三坐標(biāo)可以測量大尺寸零件的輪廓，因為它有龍門式三坐標(biāo)和關(guān)節(jié)臂三坐標(biāo)，而輪廓儀主要是用來測量一些小的精密零件輪廓尺寸的，加上粗糙度模塊也可以測量粗糙度。 粗糙度儀的功能是測量零件表面的磨加工/精車加工工序的表面加工質(zhì)量。

    比較大視場Thefilm3D以10倍物鏡優(yōu)異地提供更寛廣的2毫米視野，其數(shù)位變焦功能有助于緩解不同應(yīng)用時切換多個物鏡的需要，更進(jìn)一步減少總體成本。手動式物鏡轉(zhuǎn)盤能一次搭載四組物鏡，能滿足需要多種倍率物鏡交替使用的測量應(yīng)用。索取技術(shù)資料索取報價性能規(guī)格厚度范圍,WSI50nm-10mm厚度范圍,PSI0-3μm樣品反射率範(fàn)圍-100 %電腦要求機(jī)械規(guī)格Z范圍100mmPiezo(壓電)范圍500μmXY平臺類型手動或自動XY平臺范圍100mmx100mm相機(jī)2592x1944(5百萬像素)系統(tǒng)尺寸，寬x深x高300mmx300mmx550mm系統(tǒng)重量15kg物鏡1(NikonCFICEpiPlan)放大倍率5X10X20X50X100X視場xmmxmmxmmxmmxmm采樣空間2μmμmμmμmμm1分別出售2樣本上之像素大小常見的選購配件：urionNano30主動式防震臺4微米，2微米，和100納米多臺階高度標(biāo)準(zhǔn)。儀器運(yùn)用高性能內(nèi)部抗震設(shè)計，不受外部環(huán)境影響測量的準(zhǔn)確性。輪廓儀輪廓儀自動化測量

光學(xué)系統(tǒng)：同軸照明無限遠(yuǎn)干涉成像系統(tǒng)。**輪廓儀國內(nèi)用戶

    比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質(zhì)，半導(dǎo)體，和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術(shù)在成本，復(fù)雜度，和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射，所以一定要分析反射光的偏振和強(qiáng)度，使得橢偏儀對超薄和復(fù)雜的薄膜堆有較強(qiáng)的測量能力。然而，偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學(xué)儀器。光譜反射儀測量的是垂直光，它忽略偏振效應(yīng)（絕大多數(shù)薄膜都是旋轉(zhuǎn)對稱）。因為不涉及任何移動設(shè)備，光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強(qiáng)大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的優(yōu)先，而橢偏儀側(cè)重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間，兩種技術(shù)都可用。而且具有快速，簡便，成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。**輪廓儀國內(nèi)用戶

岱美儀器技術(shù)服務(wù)（上海）有限公司是一家磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理（拍賣除外）及其相關(guān)配套服務(wù)，國際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易，商務(wù)信息咨詢服務(wù)。 【依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動】的公司，致力于發(fā)展為創(chuàng)新務(wù)實、誠實可信的企業(yè)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)深耕行業(yè)多年，始終以客戶的需求為向?qū)В瑸榭蛻籼峁?**的磁記錄，半導(dǎo)體，光通訊生產(chǎn)，測試儀器的批發(fā)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)繼續(xù)堅定不移地走高質(zhì)量發(fā)展道路，既要實現(xiàn)基本面穩(wěn)定增長，又要聚焦關(guān)鍵領(lǐng)域，實現(xiàn)轉(zhuǎn)型再突破。岱美儀器技術(shù)服務(wù)始終關(guān)注儀器儀表市場，以敏銳的市場洞察力，實現(xiàn)與客戶的成長共贏。