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場效應晶體管依靠一塊薄層半導體受橫向電場影響而改變其電阻(簡稱場效應),使具有放大信號的功能。這薄層半導體的兩端接兩個電極稱為源和漏。控制橫向電場的電極稱為柵。根據(jù)柵的結(jié)構(gòu),場效應晶體管可以分為三種:①結(jié)型場效應管(用PN結(jié)構(gòu)成柵極);②MOS場效應管(用金屬-氧化物-半導體構(gòu)成柵極,見金屬-絕緣體-半導體系統(tǒng));③MES場效應管(用金屬與半導體接觸構(gòu)成柵極);其中MOS場效應管使用*****。尤其在大規(guī)模集成電路的發(fā)展中,MOS大規(guī)模集成電路具有特殊的優(yōu)越性。MES場效應管一般用在GaAs微波晶體管上。利用半導體的其他特性做成的器件還有熱敏電阻、霍耳器件、壓敏元件、氣敏晶體管和表面波器件等。江蘇有什么半導體器件品牌排行榜
它是由兩個PN結(jié)構(gòu)成,其中一個PN結(jié)稱為發(fā)射結(jié),另一個稱為集電結(jié)。兩個結(jié)之間的一薄層半導體材料稱為基區(qū)。接在發(fā)射結(jié)一端和集電結(jié)一端的兩個電極分別稱為發(fā)射極和集電極。接在基區(qū)上的電極稱為基極。在應用時,發(fā)射結(jié)處于正向偏置,集電極處于反向偏置。通過發(fā)射結(jié)的電流使大量的少數(shù)載流子注入到基區(qū)里,這些少數(shù)載流子靠擴散遷移到集電結(jié)而形成集電極電流,只有極少量的少數(shù)載流子在基區(qū)內(nèi)復合而形成基極電流。集電極電流與基極電流之比稱為共發(fā)射極電流放大系數(shù)。在共發(fā)射極電路中,微小的基極電流變化可以控制很大的集電極電流變化,這就是雙極型晶體管的電流放大效應。雙極型晶體管可分為NPN型和PNP型兩類。江蘇有什么半導體器件品牌排行榜美國電子工業(yè)協(xié)會登記順序號。多位數(shù)字-該器件在美國電子工業(yè)協(xié)會登記的順序號。
第四部分:用字母對同一類型號器件進行分檔。A、B、C、D、E┄┄-表示同一型號的器件按某一參數(shù)進行分檔的標志。除四個基本部分外,有時還加后綴,以區(qū)別特性或進一步分類。常見后綴如下:1、穩(wěn)壓二極管型號的后綴。其后綴的***部分是一個字母,表示穩(wěn)定電壓值的容許誤差范圍,字母A、B、C、D、E分別表示容許誤差為±1%、±2%、±5%、±10%、±15%;其后綴第二部分是數(shù)字,表示標稱穩(wěn)定電壓的整數(shù)數(shù)值;后綴的第三部分是字母V,**小數(shù)點,字母V之后的數(shù)字為穩(wěn)壓管標稱穩(wěn)定電壓的小數(shù)值。2、整流二極管后綴是數(shù)字,表示器件的比較大反向峰值耐壓值,單位是伏特。
在偶極層內(nèi)部電場很強。當外加反向電壓達到一定閾值時,偶極層內(nèi)部會發(fā)生雪崩擊穿而使電流突然增加幾個數(shù)量級。利用PN結(jié)的這些特性在各種應用領(lǐng)域內(nèi)制成的二極管有:整流二極管、檢波二極管、變頻二極管、變?nèi)荻O管、開關(guān)二極管、穩(wěn)壓二極管(曾訥二極管)、崩越二極管(碰撞雪崩渡越二極管)和俘越二極管(俘獲等離子體雪崩渡越時間二極管)等。此外,還有利用PN結(jié)特殊效應的隧道二極管,以及沒有PN結(jié)的肖脫基二極管和耿氏二極管等。把晶體二極管、三極管以及電阻電容都制作在同一塊硅芯片上,稱為集成電路。
在MOS器件的基礎(chǔ)上,又發(fā)展出一種電荷耦合器件(CCD),它是以半導體表面附近存儲的電荷作為信息,控制表面附近的勢阱使電荷在表面附近向某一方向轉(zhuǎn)移。這種器件通??梢杂米餮舆t線和存儲器等;配上光電二極管列陣,可用作攝像管。命名方法中國半導體器件型號命名方法半導體器件型號由五部分(場效應器件、半導體特殊器件、復合管、PIN型管、激光器件的型號命名只有第三、四、五部分)組成。五個部分意義如下:***部分:用數(shù)字表示半導體器件有效電極數(shù)目。2-二極管、3-三極管它是由兩個PN結(jié)構(gòu)成,其中一個PN結(jié)稱為發(fā)射結(jié),另一個稱為集電結(jié)。江蘇半導體器件品牌排行榜
美國電子工業(yè)協(xié)會(EIA)注冊標志。N-該器件已在美國電子工業(yè)協(xié)會(EIA)注冊登記。江蘇有什么半導體器件品牌排行榜
第五部分:用字母表示器件分檔。A、B、C、D、┄┄-同一型號器件的不同檔別。如:JAN2N3251A表示PNP硅高頻小功率開關(guān)三極管,JAN-軍級、2-三極管、N-EIA 注冊標志、3251-EIA登記順序號、A-2N3251A檔。國際電子聯(lián)合會半導體器件型號命名方法德國、法國、意大利、荷蘭、比利時等歐洲國家以及匈牙利、羅馬尼亞、南斯拉夫、波蘭等東歐國家,大都采用國際電子聯(lián)合會半導體分立器件型號命名方法。這種命名方法由四個基本部分組成,各部分的符號及意義如下:***部分:用字母表示器件使用的材料。A-器件使用材料的禁帶寬度Eg=0.6~1.0eV 如鍺、B-器件使用材料的Eg=1.0~1.3eV 如硅、C-器件使用材料的Eg>1.3eV 如砷化鎵、D-器件使用材料的Eg<0.6eV 如銻化銦、E-器件使用復合材料及光電池使用的材料江蘇有什么半導體器件品牌排行榜
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