臺達(dá)ME300變頻器:小身材,大能量,開啟工業(yè)調(diào)速新篇章
臺達(dá)MH300變頻器:傳動與張力控制的革新利器-友誠創(chuàng)
磁浮軸承驅(qū)動器AMBD:高速變頻技術(shù)引導(dǎo)工業(yè)高效能新時代
臺達(dá)液冷型變頻器C2000-R:工業(yè)散熱與空間難題
臺達(dá)高防護型MS300 IP66/NEMA 4X變頻器
重載設(shè)備救星!臺達(dá)CH2000變頻器憑高過載能力破局工業(yè)難題
臺達(dá)C2000+系列變頻器:工業(yè)驅(qū)動的優(yōu)越之選!
臺達(dá)CP2000系列變頻器:工業(yè)驅(qū)動的革新力量!
臺達(dá)變頻器MS300系列:工業(yè)節(jié)能與智能控制的全能之選。
一文讀懂臺達(dá) PLC 各系列!性能優(yōu)越,優(yōu)勢盡顯
Dimension-Labs 為激光設(shè)備與生產(chǎn)企業(yè)推出 Beamhere 光束質(zhì)量管家。該系統(tǒng)通過智能檢測模塊,可快速完成光斑能量分布測繪、發(fā)散角計算及 M2 因子分析,幫助用戶優(yōu)化光束整形效果、提升聚焦精度。所有測試參數(shù)均符合 ISO11146 國際標(biāo)準(zhǔn),包含光斑寬度、質(zhì)心位置等指標(biāo)??蛇x配的 M2 測試功能可動態(tài)分析光束傳播特性,終由軟件自動生成專業(yè)測試報告,將傳統(tǒng)人工檢測效率提升 80% 以上。 產(chǎn)品優(yōu)勢: 滿足測試需求的全系列產(chǎn)品 適配所有Beamhere光斑分析儀的M M2因子測試模塊 精心設(shè)計的分析軟件 軟件真正做到交互友好,簡單易用,一鍵輸出測試報告。近場光斑測試方案,推進(jìn)半導(dǎo)體,硅光行業(yè)優(yōu)化升級。狹縫光斑分析儀費用是多少
維度光電BeamHere 光斑分析儀系列,提供全場景激光光束質(zhì)量分析解決方案。產(chǎn)品覆蓋 190-2700nm 光譜,包括掃描狹縫式和相機式技術(shù),實現(xiàn)亞微米至毫米級光斑測量。掃描狹縫式支持 2.5μm-10mm 光斑檢測,具備 0.1μm 分辨率,適用于高功率激光。相機式提供 400-1700nm 響應(yīng),實現(xiàn) 2D/3D 成像分析,測量功率范圍 1μW-1W。M2 因子測試模塊基于 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn),評估光束質(zhì)量。軟件提供自動化分析和標(biāo)準(zhǔn)化報告。技術(shù)創(chuàng)新包括正交狹縫轉(zhuǎn)動輪結(jié)構(gòu)和適應(yīng)復(fù)雜光斑的面陣傳感器。產(chǎn)品適用于光束整形檢驗、光鑷系統(tǒng)檢測和準(zhǔn)直監(jiān)測。結(jié)構(gòu)設(shè)計優(yōu)化,通過 CE/FCC 認(rèn)證,應(yīng)用于多個領(lǐng)域,助力光束質(zhì)量分析和工藝優(yōu)化。大功率光斑分析儀是什么微弱信號光斑如何檢測?維度光電動態(tài)范圍增強算法,突破探測器極限,同步清晰成像。
Dimension-Labs 針對高功率激光檢測難題推出 BeamHere 大功率光束取樣系統(tǒng),突破傳統(tǒng)面陣傳感器在 10μW/cm2 飽和閾值的限制,通過創(chuàng)新狹縫物理衰減機制實現(xiàn) 10W 級激光直接測量,配合可疊加的單次(DL-LBA-1)與雙次(DL-LBA-2)取樣配件形成多級衰減方案,衰減達(dá) 10??,可測功率超 1000W。該系統(tǒng)采用 45° 傾斜設(shè)計的單次取樣配件支持 4%-5% 取樣率,雙次配件內(nèi)置雙片透鏡實現(xiàn) 0.16%-0.25% 取樣率,均配備 C 口通用接口和鎖緊環(huán)結(jié)構(gòu),支持任意角度入射光束檢測。其優(yōu)化設(shè)計的 68mm(單次)和 53mm(雙次)取樣光程確保聚焦光斑完整投射至傳感器,解決傳統(tǒng)外搭光路光程不足問題,緊湊結(jié)構(gòu)減少 70% 空間占用。系統(tǒng)覆蓋 190-2500nm 寬光譜范圍,通過 CE/FCC 認(rèn)證,可在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,已成功應(yīng)用于工業(yè)激光加工(熱影響區(qū)≤30μm)、科研超快激光(皮秒脈沖分析)及醫(yī)療設(shè)備校準(zhǔn)(能量均勻性誤差<2%),幫助客戶提升 3 倍檢測效率并降** 30% 檢測成本。
維度光電 BeamHere 系列為激光光束質(zhì)量檢測提供高性價比解決方案: 掃描狹縫式:國內(nèi)刀口 / 狹縫雙模式切換,覆蓋 190-2700nm 光譜,可測 2.5μm-10mm 光束,0.1μm 分辨率實現(xiàn)亞微米級光斑分析。創(chuàng)新狹縫衰減機制支持 10W 級高功率直接測量,無需外置衰減片。 相機式:400-1700nm 寬譜響應(yīng),支持實時 2D/3D 成像與非高斯光束測量。六濾光片轉(zhuǎn)輪設(shè)計擴展功率量程,可拆卸結(jié)構(gòu)兼顧工業(yè)檢測與科研成像需求。 M2 測試模塊:通過 ISO 11146 標(biāo)準(zhǔn)算法,測量 M2 因子、發(fā)散角、束腰位置等參數(shù),適配全系產(chǎn)品。 配套 BeamHere 軟件提供直觀操作界面,支持一鍵生成標(biāo)準(zhǔn)化報告,滿足光通信、醫(yī)療、工業(yè)等多場景需求。系統(tǒng)以模塊化設(shè)計實現(xiàn)高精度檢測,助力客戶提升效率與產(chǎn)品質(zhì)量。光斑分析儀保修期多長?維度光電整機 3 年質(zhì)保,部件 5 年延保。
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),覆蓋 190-2700nm 寬光譜,可測 2.5μm-10mm 光束直徑,0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)檢測極限。其創(chuàng)新設(shè)計實現(xiàn)三大優(yōu)勢: 雙模式自適應(yīng)檢測 通過軟件切換刀口 / 狹縫模式,分析 < 20μm 極小光斑形態(tài)或 10mm 大光斑能量分布,全量程無盲區(qū)。 高功率直接測量 狹縫物理衰減機制允許單次通過狹縫區(qū)域光,無需外置衰減片即可安全測量近 10W 高功率激光。 超分辨率成像 基于狹縫掃描原理實現(xiàn) 0.1μm 分辨率,完整捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié),避免能量分布特征丟失。 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪,通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸功率數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出光束直徑、橢圓率等 20 + 參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計適配多場景安裝,通過 CE/FCC 認(rèn)證,適用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升光束質(zhì)量檢測精度與效率。如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光光束的質(zhì)量?大功率光斑分析儀原理
如何利用光斑分析儀和 M2 因子測量模塊評估激光質(zhì)量?狹縫光斑分析儀費用是多少
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為,覆蓋 190-2700nm 全光譜,可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限,捕捉亞微米級光斑細(xì)節(jié)。 技術(shù)優(yōu)勢: 雙模式智能適配:軟件自主切換刀口 / 狹縫模式,解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測:創(chuàng)新狹縫物理衰減機制,無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像:基于狹縫掃描原理,完整還原光斑能量分布,避免特征丟失 設(shè)備內(nèi)置正交狹縫轉(zhuǎn)動輪,通過旋轉(zhuǎn)掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經(jīng)算法處理輸出 20 + 光束參數(shù)。緊湊模塊化設(shè)計適配工業(yè)與實驗室場景,通過 CE/FCC 認(rèn)證,在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,應(yīng)用于激光加工、醫(yī)療設(shè)備及科研領(lǐng)域,助力客戶提升檢測精度與效率。狹縫光斑分析儀費用是多少