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英寶碩：關于氣云成像的探測下限，你應該知道...
來源：
發(fā)布時間：2025-03-17
氣云成像探測下限（Limit of Detection,LOD）的兩種表示方法
1.1氣體濃度測量檢出限大小用沿光軸積分的氣體濃度測量值表示，通常單位為ppm-m。它表征了紅外相機在像素水平上檢測氣體柱的能力。
1.2質量泄漏率（或體積泄漏率）檢出限以質量泄漏率(或體積泄漏率)測量，例如用克/小時(g/h)或者毫升/分鐘（ml/min）
影響氣云成像探測下限的主要因素2.1、背景溫度與氣體溫度的差值ΔT
2.2氣體種類。一般來說，氣體分子式中含碳越多，氣體吸收系數越大。如上圖，在相同的溫差下，丙烷的檢測下限比甲烷低2/3以上。
2.3主機和泄漏氣體的距離。距離越遠，探測下限值越高，呈現與e指數相似的增長趨勢。
2.5擴散條件。在開放條件下，風速越大，探測下限值越高。
氣云成像的探測下限受多種因素影響，包括溫差、氣體種類、探測距離、探測器類型和大氣擴散條件等。在產品選型時要綜合考慮檢測需求、技術性能、可靠性、穩(wěn)定性、成本和使用場景，根據具體的應用需求，選擇合適的紅外氣云成像檢測設備。
【關于英寶碩】
英寶碩位于中國科技創(chuàng)新之都——深圳，是具有自主研發(fā)實力的國家高新技術企業(yè)和深圳市專精特新企業(yè)。秉承應用驅動創(chuàng)新的經營理念，公司始終專注于先進氣體探測產品的研制、生產及推廣，為有安全、應急及反恐需求的用戶提供一站式服務。
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