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來源： 發(fā)布時(shí)間：2025-06-14

吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘，國產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展

自主研發(fā) ArF 光刻膠通過中芯國際驗(yàn)證，吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國內(nèi)光刻膠空白。
吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達(dá) 90nm，適用于 14nm 及以上制程，已通過中芯國際量產(chǎn)驗(yàn)證。該產(chǎn)品采用國產(chǎn)原材料與自主配方，突破日本企業(yè)對 ArF 光刻膠的壟斷。其光酸產(chǎn)率提升 30%，蝕刻選擇比達(dá) 4:1，性能對標(biāo)日本信越的 ArF 系列。吉田半導(dǎo)體的技術(shù)突破加速了國產(chǎn)芯片制造材料自主化進(jìn)程，為國內(nèi)晶圓廠提供高性價(jià)比解決方案。
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 感光機(jī)制

? 重氮型（雙液型）：需混合光敏劑（如二疊氮二苯乙烯二磺酸鈉），曝光后通過交聯(lián)反應(yīng)固化，適用于精細(xì)圖案（如PCB電路線寬≤0.15mm）。

? SBQ型（單液型）：預(yù)混光敏劑，無需調(diào)配，感光度高（曝光時(shí)間縮短30%），適合快速制版（如服裝印花）。

? 環(huán)保型：采用無鉻配方（如CN10243143A），通過多元固化體系（熱固化+光固化）實(shí)現(xiàn)12-15mJ/cm2快速曝光，分辨率達(dá)2μm，符合歐盟REACH標(biāo)準(zhǔn)。

 功能細(xì)分

? 耐溶劑型：如日本村上AD20，耐酒精、甲苯等溶劑，適用于電子油墨印刷。

? 耐水型：如瑞士科特1711，抗水性強(qiáng)，適合紡織品水性漿料。

? 厚版型：如德國K?ppen厚版膠，單次涂布可達(dá)50μm，用于立體印刷。


典型應(yīng)用場景：

? PCB制造：使用360目尼龍網(wǎng)+重氮感光膠，配合LED曝光（405nm波長），實(shí)現(xiàn)0.15mm線寬，耐酸性蝕刻液。

? 紡織印花：圓網(wǎng)制版采用9806A型感光膠，涂布厚度20μm，耐堿性染料色漿，耐印率超10萬次。

? 包裝印刷：柔版制版選用杜邦賽麗® Lightning LFH版材，UV-LED曝光+無溶劑工藝，碳排放降低40%。
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納米制造與表面工程

? 納米結(jié)構(gòu)模板：作為納米壓印光刻（NIL）的母版制備材料，通過電子束光刻膠寫出高精度納米圖案（如50nm以下的柱陣列、孔陣列），用于批量復(fù)制微流控芯片或柔性顯示基板。

? 表面功能化：在基底表面構(gòu)建納米級粗糙度（如仿生荷葉超疏水表面）或化學(xué)圖案（引導(dǎo)細(xì)胞定向生長的納米溝槽），用于生物醫(yī)學(xué)或能源材料（如電池電極的納米陣列結(jié)構(gòu)）。

量子技術(shù)與精密測量

? 超導(dǎo)量子比特：在鈮酸鋰或硅基底上，通過光刻膠定義納米級約瑟夫森結(jié)陣列，構(gòu)建量子電路。

? 納米傳感器：制備納米級懸臂梁（表面鍍光刻膠圖案化的金屬電極），用于探測單個(gè)分子的質(zhì)量或電荷變化（分辨率達(dá)亞納米級）。

光刻膠（如液晶平板顯示器光刻膠）

  • 液晶平板顯示器制造：在液晶平板顯示器（LCD）的生產(chǎn)過程中，光刻膠用于制作液晶盒內(nèi)的各種精細(xì)圖案，包括像素電極、公共電極、取向?qū)訄D案等。這些圖案的精度和質(zhì)量直接影響液晶顯示器的顯示效果，如分辨率、對比度、視角等。
  • 有機(jī)發(fā)光二極管顯示器（OLED）制造：OLED 顯示器的制造同樣需要光刻膠來制作電極、像素定義層等關(guān)鍵結(jié)構(gòu)。OLED 顯示器具有自發(fā)光、響應(yīng)速度快等優(yōu)點(diǎn)，而光刻膠能保障其精細(xì)的像素結(jié)構(gòu)制作，提升顯示器的發(fā)光效率和顯示質(zhì)量 。


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廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢，適用于不同領(lǐng)域。

厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用于厚板的光刻加工，在對精度、感光度和抗蝕刻要求高的生產(chǎn)場景中發(fā)揮作用，如特定的電路板制造領(lǐng)域。

水油光刻膠 SR - 3303：適用于光學(xué)儀器、太陽能電池等領(lǐng)域的光刻工藝。品質(zhì)保障、性能穩(wěn)定的特點(diǎn)，由工廠研發(fā)且支持定制，工廠直銷。 吉田半導(dǎo)體全流程解決方案，賦能客戶提升生產(chǎn)效率。浙江紫外光刻膠國產(chǎn)廠商

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 研發(fā)投入
? 擁有自己實(shí)驗(yàn)室和研發(fā)團(tuán)隊(duì)，研發(fā)費(fèi)用占比超15%，聚焦EUV光刻膠前驅(qū)體、低缺陷納米壓印膠等前沿領(lǐng)域，與中山大學(xué)、華南理工大學(xué)建立產(chǎn)學(xué)研合作。

? 專項(xiàng)布局：累計(jì)申請光刻膠相關(guān)的項(xiàng)目30余項(xiàng)，涵蓋樹脂合成、配方優(yōu)化、涂布工藝等細(xì)致環(huán)節(jié)。

 生產(chǎn)體系

? 全自動(dòng)化產(chǎn)線：采用德國曼茨（Manz）涂布設(shè)備、日本島津（Shimadzu）檢測儀器，年產(chǎn)能超500噸（光刻膠），支持小批量定制（小訂單100g）和大規(guī)模量產(chǎn)。

? 潔凈環(huán)境：生產(chǎn)車間達(dá)萬級潔凈標(biāo)準(zhǔn)（ISO 8級），避免顆粒污染，確保光刻膠缺陷密度<5個(gè)/cm2。
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標(biāo)簽： 光刻膠 錫膏 錫片