某生物力學實驗室通過 Polos 光刻機,在單一芯片上集成了壓阻式和電容式細胞力傳感器。其多材料曝光技術在 20μm 的懸臂梁上同時制備金屬電極與硅基壓阻元件,傳感器的力分辨率達 5pN,位移檢測精度達 1nm。在心肌細胞收縮力檢測中,該集成傳感器實現(xiàn)了力 - 電信號的同步采集,發(fā)現(xiàn)收縮力峰值與動作電位時程的相關性達 0.92,為心臟電機械耦合機制研究提供了全新工具,相關論文發(fā)表于《Biophysical Journal》。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。圖案靈活性:支持 STL 模型直接導入,30 分鐘完成從設計到曝光全流程。河北德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
低成本桌面化光刻:SPS POLOS μ的科研普惠!Polos系列在微流體領域實現(xiàn)復雜3D流道結構的快速成型。例如,中科院理化所利用類似技術制備跨尺度微盤陣列,研究細胞浸潤行為,為組織工程提供新策略3。Polos的高精度與靈活性支持仿生結構批量生產,推動醫(yī)療診斷芯片研發(fā),如tumor篩查與藥物遞送系統(tǒng)的微型化64。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。陜西德國桌面無掩模光刻機讓你隨意進行納米圖案化技術Benchmark:Polos-μPrinter 入選《半導體技術》年度創(chuàng)新產品,推動無掩模光刻技術普及。
某revolution生物醫(yī)學研究機構致力于開發(fā)快速、precise的疾病診斷技術。在研發(fā)一種用于早期tumor篩查的微流體診斷芯片時,采用了德國 Polos 光刻機。利用其無掩模激光光刻技術,科研團隊成功制造出擁有復雜微通道網(wǎng)絡的芯片。這些微通道能精確控制生物樣本與檢測試劑的混合及反應過程,極大提高了檢測的靈敏度和準確性。以往使用傳統(tǒng)光刻技術制備此類芯片,不only周期長,且精度難以保證。而 Polos 光刻機使制備周期縮短了近三分之一,助力該機構在tumor早期診斷研究上取得重大突破,相關成果已發(fā)表在國際authority醫(yī)學期刊上。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。
上海有機化學研究所通過光刻技術制備多組分納米纖維,實現(xiàn)了功能材料的精確組裝。類似地,Polos系列設備可支持此類結構的可控加工,為新能源器件(如柔性電池)和智能材料提供技術基礎3。設備的高重復性(0.1 μm)確保了科研成果的可轉化性。掩模光刻技術可以隨意進行納米級圖案化,無需使用速度慢且昂貴的光罩。這種便利對于科研和快速原型制作非常有用。POL0S@ Beam XL在性能上沒有任何妥協(xié)的情況下,將該技術帶到了桌面上,進一步提升了其優(yōu)勢。生物界面創(chuàng)新:微納結構可控加工,為組織工程提供新型仿生材料解決方案。
無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會??鐚W科應用:覆蓋微機械、光子晶體、仿生傳感器與納米材料合成領域。河南光刻機MAX層厚可達到10微米
微流體領域:支持 1-100μm 微通道定制,助力organ芯片血管網(wǎng)絡precise建模。河北德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸
某能源研究團隊采用 Polos 光刻機制造了壓電式微型能量收集器。其激光直寫技術在 PZT 薄膜上刻制出 50μm 的叉指電極,器件的能量轉換效率達 35%,在 10Hz 振動下可輸出 50μW/cm2 的功率。通過自定義電極間距和厚度,該收集器可適配不同頻率的環(huán)境振動,在智能穿戴設備中實現(xiàn)了運動能量的實時采集與存儲。其輕量化設計(體積 < 1mm3)還被用于物聯(lián)網(wǎng)傳感器節(jié)點,使傳感器續(xù)航時間從 3 個月延長至 2 年。無掩模激光光刻 (MLL) 是一種微加工技術,用于在基板上以高精度和高分辨率創(chuàng)建復雜圖案。一個新加坡研究團隊通過無縫集成硬件和軟件組件,開發(fā)出一款緊湊且經濟高效的 MLL 系統(tǒng)。通過與計算機輔助設計軟件無縫集成,操作員可以輕松輸入任意圖案進行曝光。該系統(tǒng)占用空間小,非常適合研究實驗室,并broad應用于微流體、電子學和納/微機械系統(tǒng)等各個領域。該系統(tǒng)的經濟高效性使其優(yōu)勢擴展到大學研究實驗室以外的領域,為半導體和醫(yī)療公司提供了利用其功能的機會。河北德國POLOS光刻機MAX基材尺寸4英寸到6英寸