恒溫恒濕箱試驗箱是航空、汽車、家電、科研等領域必備的檢測設備，用于測試電子、電工及其它產(chǎn)品及材料進行高溫、低溫、交變濕熱度或恒定試驗的溫度環(huán)境變化參數(shù)及性能。該系列產(chǎn)品適用于航空航天產(chǎn)品、信息電子儀器儀表、材料、電工、電子產(chǎn)品、各種電子元氣件在高低溫或濕熱環(huán)境下、檢驗其各項性能指標。下面為大家介紹一下真萍科技的恒溫恒濕試驗箱的控制特點。試驗箱的控制系統(tǒng)可說是整個設備的心臟，掌管著制冷、制熱、控濕、循環(huán)、控制等大權。在制冷方面，壓縮機是采用德國進口的壓縮機。制冷系統(tǒng)由高溫部分和低溫部分組成，每一部分是一個相對單獨的制冷系統(tǒng)。高溫部分中制冷劑的蒸發(fā)吸收來自低溫部分的制冷劑的熱量而汽化；低溫部分制冷劑的蒸發(fā)則從被冷卻的對象(試驗機內的空氣)吸熱以獲取冷量。高溫部分和低溫部分之間是用一個蒸發(fā)冷凝器聯(lián)系起來，它既是高溫部分的冷凝器，也是低溫部分的冷凝器。加熱系統(tǒng)采用完全單獨的鎳鉻合金電加熱式，電阻率大、電阻溫度系數(shù)小，在高溫下變形小且不易脆化，自身加熱溫度可達1000～1500℃，使用壽命長。上海哪家試驗箱廠家值得信賴？四川做試驗箱

真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜主要應用于防止晶圓片的潮濕、氧化及被其它氣體(ex阿摩利亞氣體)破壞，防止探針卡潮濕及氧化，防止光罩的受潮---黃光部封裝的金線，液防止晶的受潮，以及防止線路板受潮。下面為大家簡單介紹一下真萍科技電腦式潔凈節(jié)能氮氣柜的氮氣監(jiān)控系統(tǒng)。1.溫濕度記錄功能：1.2內建內存，可儲存溫度/濕度，收集時間1~240分鐘可自行設定。1.3可利用RS232連接阜下載至計算機中讀取。1.4品管記錄格式設計，有助于內部記錄追蹤并可支持數(shù)據(jù)庫檔案格式。2.濕度警報系統(tǒng)：2.1可設定啟動警報的濕度值及條件，內配蜂鳴器（90分貝）及閃爍警示功能。2.2可另外選配積層式警示燈。3.溫濕度偏移校正功能：內建校正功能，確保顯示準確度。小型試驗箱的廠家試驗箱哪家便宜？合肥真萍告訴您。

隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預熱回火、退火、老化等用途。作為隧道爐的優(yōu)良供應商原產(chǎn)廠家，小編下面就為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品材質的構成。1.外箱構成。外箱采用1.5mm厚Q235冷軋鋼板/內箱采用1.5mm厚SUS304#不銹鋼2.系統(tǒng)裝置保護裝置定時報警斷電裝置、超溫斷電、漏電保護斷路器、電機過載保護。

精密鼓風烘箱適用于電子元器件、橡膠、塑料、裝飾材料等行業(yè)對溫度均勻性要求比較嚴格的實驗。真萍科技作為精密鼓風烤箱的優(yōu)良原廠廠家，設備都是自主生產(chǎn)銷售，質量可靠，品質保證，歡迎來電咨詢。大家對精密鼓風烘箱有沒有些許了解呢，下面小編就帶大家走近精密鼓風烘箱，為大家介紹一下真萍科技精密鼓風烤箱的參數(shù)。技術參數(shù)：1.型號：CB-9023A2.產(chǎn)品類型：液晶顯示3.電源電壓：AC220V10%/50Hz2%4.控溫范圍：室溫+10℃-200℃5.溫度分辨率：0.1℃6.溫度波動度：≤0.2℃7.溫度均勻度：≤1.5%8.輸入功率：500W9.工作室尺寸(mm)：300（寬）*300（深）*270（高）10.載物托架：2塊11.定時范圍：0-9999分鐘試驗箱常見的用途有哪些？合肥真萍告訴您。

隧道爐適用于五金模具、航天航空、納米材料、精密陶瓷、粉末治金、鐵氟龍噴涂、五金、鋰電池、化工、運動器材、汽車零配件、電機、化工、工業(yè)之烘烤、干燥、預熱回火、退火、老化等用途。下面為大家介紹一下真萍科技隧道爐的產(chǎn)品特點。1.雙邊配有鏈條傳動，解決傳送過程中跑偏的現(xiàn)象；2.烘箱分段式加熱，單獨電箱控制，方便操作。結構主要由輸送機系統(tǒng)與烘干爐兩大部分組成，多段單獨；3.PID溫度控制，爐內溫度均勻；4.輸送速度變頻調速，調節(jié)自如，運行平穩(wěn)，產(chǎn)能高；5.每段單獨箱體設置廢氣排放接口，可外接到車間外面，避免車間廢氣污染。試驗箱在社會上的重要性。生產(chǎn)試驗箱怎么樣

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本篇介紹專業(yè)全自動HMDS真空烤箱，首先簡單介紹一下HMDS預處理系統(tǒng)的必要性：在半導體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié)，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。增黏劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后，經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?，其疏水基可很好地與光刻膠結合，起著偶聯(lián)劑的作用。四川做試驗箱

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