焊點(diǎn)缺陷控制不同 無(wú)鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 常見(jiàn)缺陷 易出現(xiàn) 焊點(diǎn)空洞、裂紋、不潤(rùn)濕(因冷卻收縮率大,約2.1%),尤其在BGA等大面積焊點(diǎn)中風(fēng)險(xiǎn)高。 主要缺陷為 虛焊、短路(因操作不當(dāng)),收縮率低(1.4%),裂紋風(fēng)險(xiǎn)低。 ...
錫片的主要分類(lèi)(按材料與性能劃分) 按合金成分分類(lèi) 類(lèi)型 典型成分 熔點(diǎn)(℃) 主要特性 應(yīng)用場(chǎng)景 Sn-Pb(有鉛錫片) Sn63Pb37(共晶)等 183 潤(rùn)濕性很好、焊接強(qiáng)度高、成本低,但含鉛(需符合RoHS豁...
國(guó)際廠(chǎng)商 1. Alpha Assembly Solutions(美國(guó),日立化成子公司) ? 產(chǎn)品定位:全球比較大的焊接材料供應(yīng)商之一,焊片產(chǎn)品線(xiàn)覆蓋全場(chǎng)景。 ? 技術(shù)優(yōu)勢(shì): ...
歷史冷知識(shí):錫的「冬天之痛」 當(dāng)溫度低于13.2℃,白錫會(huì)逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榇嘤驳幕义a(「錫疫」),1912年南極探險(xiǎn)隊(duì)的錫制燃油桶因錫疫破裂,導(dǎo)致燃料泄漏,成為探險(xiǎn)失敗的重要原因之一?,F(xiàn)代錫片通過(guò)添加0.1%鉍,可將錫疫起始溫度降至-50℃以下,徹底解決這...
晶須生長(zhǎng)的「隱患與對(duì)策」:純錫片在長(zhǎng)期應(yīng)力下可能產(chǎn)生「錫晶須」(直徑1-5μm,長(zhǎng)度可達(dá)1mm),導(dǎo)致電路短路。通過(guò)添加0.05%的鎳或銻,可抑制晶須生長(zhǎng)速率90%以上,保障精密儀器(如衛(wèi)星導(dǎo)航系統(tǒng))10年以上無(wú)故障運(yùn)行。 相圖原理的...
國(guó)際廠(chǎng)商 1. Alpha Assembly Solutions(美國(guó),日立化成子公司) ? 產(chǎn)品定位:全球比較大的焊接材料供應(yīng)商之一,焊片產(chǎn)品線(xiàn)覆蓋全場(chǎng)景。 ? 技術(shù)優(yōu)勢(shì): ...
高壓閥門(mén)的「無(wú)火花密封」:在石油化工領(lǐng)域,錫片(純度99.9%)制成的密封墊片可承受20MPa壓力與150℃高溫,其莫氏硬度只有1.5(低于鋼鐵),在螺栓緊固時(shí)能填滿(mǎn)0.05mm以下的金屬表面缺陷,且摩擦?xí)r不產(chǎn)生火花(燃點(diǎn)>500℃),杜絕易燃易爆環(huán)境中的...
晶粒尺寸的「強(qiáng)度密碼」:通過(guò)控制軋制溫度(150℃以下),錫片的晶粒尺寸可細(xì)化至50μm以下,使抗拉強(qiáng)度從20MPa提升至50MPa,這種「細(xì)晶強(qiáng)化」讓超薄錫片(0.05mm)能承受100g的拉力而不斷裂,滿(mǎn)足柔性電路板的彎曲需求(彎折半徑<5mm)。 ...
無(wú)鉛錫片是指不含鉛(Pb)或鉛含量低于歐盟RoHS指令(≤0.1%)的錫基合金材料,通過(guò)添加銀(Ag)、銅(Cu)、鉍(Bi)、鎳(Ni)等元素,替代傳統(tǒng)含鉛焊料,兼具環(huán)保性與可靠焊接性能,是現(xiàn)代電子制造業(yè)的主流材料。 二、主要成分與典...
操作細(xì)節(jié)與工藝優(yōu)化 無(wú)鉛錫片焊接操作 有鉛錫片焊接操作 預(yù)熱步驟 必須執(zhí)行階梯式預(yù)熱(如分低溫100℃→中溫150℃→高溫200℃),確保板材水分揮發(fā)和助焊劑激發(fā),減少爆板風(fēng)險(xiǎn)。 可簡(jiǎn)化預(yù)熱(甚至不預(yù)熱),直接進(jìn)入焊接溫度。 焊點(diǎn)...
焊接工藝差異 無(wú)鉛錫片 有鉛錫片 焊接溫度 需更高溫度(240℃以上),可能導(dǎo)致PCB板材(如FR-4)受熱變形、元件引腳氧化加劇,需優(yōu)化設(shè)備溫控精度(±5℃以?xún)?nèi))。 焊接溫度低(210℃~230℃),對(duì)設(shè)備和工藝要求較低,兼容性強(qiáng)。 ...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品,各有特性與優(yōu)勢(shì),適用于不同領(lǐng)域。 LCD 正性光刻膠 YK - 200:具有較大曝光、高分辨率、良好涂布和附著力的特點(diǎn),重量 100g。適用于液晶顯示領(lǐng)域的光刻工藝,能確保 LCD 生產(chǎn)過(guò)程中圖形的精確轉(zhuǎn)移和...
技術(shù)挑戰(zhàn) 光刻膠作為半導(dǎo)體、顯示面板等高級(jí)制造的材料,其技術(shù)挑戰(zhàn)主要集中在材料性能優(yōu)化、制程精度匹配、復(fù)雜環(huán)境適應(yīng)性以及產(chǎn)業(yè)自主化突破等方面 吉田公司以無(wú)鹵無(wú)鉛配方與低 VOC 工藝打造環(huán)保光刻膠。煙臺(tái)LED光刻膠生產(chǎn)廠(chǎng)家 ? 高...
主要應(yīng)用場(chǎng)景 消費(fèi)電子 ? 手機(jī)、筆記本電腦主板:焊接微型芯片(如BGA、QFP),保障信號(hào)傳輸穩(wěn)定與長(zhǎng)期使用可靠性。 ? 可穿戴設(shè)備(智能手表、耳機(jī)):超薄錫片焊點(diǎn)適配微型化、柔性電路板,滿(mǎn)足...
光刻膠的納米級(jí)性能要求 超高分辨率:需承受電子束(10keV以上)或EUV(13.5nm波長(zhǎng))的轟擊,避免散射導(dǎo)致的邊緣模糊,目前商用EUV膠分辨率已達(dá)13nm(3nm制程)。 低缺陷率:納米級(jí)結(jié)構(gòu)對(duì)膠層中的顆粒或化學(xué)不...
吉田半導(dǎo)體突破光刻膠共性難題,提升行業(yè)生產(chǎn)效率,通過(guò)優(yōu)化材料配方與工藝,吉田半導(dǎo)體解決光刻膠留膜率低、蝕刻損傷等共性問(wèn)題,助力客戶(hù)降本增效。 針對(duì)傳統(tǒng)光刻膠留膜率低、蝕刻損傷嚴(yán)重等問(wèn)題,吉田半導(dǎo)體研發(fā)的 T150A KrF 光刻膠留膜率較同類(lèi)產(chǎn)品高 8%,密集...
再生錫片的「資源循環(huán)戰(zhàn)」:通過(guò)回收廢舊手機(jī)、電腦主板,再生錫片的生產(chǎn)能耗只有為原生錫的32%,二氧化碳排放減少60%。全球每年回收的50萬(wàn)噸再生錫,可滿(mǎn)足電子行業(yè)40%的錫片需求,相當(dāng)于少開(kāi)采100萬(wàn)噸錫礦石。 無(wú)鉛化的「健康性質(zhì)」:...
作為中國(guó)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的企業(yè),吉田半導(dǎo)體材料有限公司始終以自研自產(chǎn)為戰(zhàn)略,通過(guò) 23 年技術(shù)沉淀與持續(xù)創(chuàng)新,成功突破多項(xiàng) “卡脖子” 技術(shù),構(gòu)建起從原材料到成品的全鏈條國(guó)產(chǎn)化能力。其自主研發(fā)的光刻膠產(chǎn)品已覆蓋芯片制造、顯示面板、精密電子等領(lǐng)域,為國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體...
國(guó)家大基金三期:注冊(cè)資本3440億元,明確將光刻膠列為重點(diǎn)投資領(lǐng)域,計(jì)劃投入超500億元支持樹(shù)脂、光引發(fā)劑等原料研發(fā),相當(dāng)于前兩期投入總和的3倍。 地方專(zhuān)項(xiàng)政策:湖北省對(duì)通過(guò)驗(yàn)證的光刻膠企業(yè)給予設(shè)備采購(gòu)補(bǔ)貼+稅收減免,武漢太紫微憑借全流程...
納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造:制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時(shí),納米壓印光刻膠可實(shí)現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制。通過(guò)納米壓印技術(shù),將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上,再經(jīng)過(guò)后續(xù)處理,可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件,應(yīng)用于光通信...
耐腐蝕性的優(yōu)化與影響因素 1. 純度與合金成分的影響 ? 純錫:耐腐蝕性好,尤其適合食品接觸或高純度要求場(chǎng)景。 ? 錫合金:添加鉛、銅、銀等元素可能輕微影響耐腐蝕性(如Sn-Pb焊錫在潮濕環(huán)境中腐...
吉田半導(dǎo)體助力區(qū)域經(jīng)濟(jì),構(gòu)建半導(dǎo)體材料生態(tài)圈,發(fā)揮企業(yè)作用,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合上下游資源,推動(dòng)?xùn)|莞松山湖半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)同創(chuàng)新。 作為松山湖產(chǎn)業(yè)集群重要成員,吉田半導(dǎo)體聯(lián)合光刻機(jī)制造商、光電子企業(yè)共建材料生態(tài)圈。公司通過(guò)技術(shù)輸出與資源共享,幫助本地企業(yè)提升工藝水平,促...
產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼、亮度高;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線(xiàn)條;感光度高,曝光時(shí)間短,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版...
廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司的產(chǎn)品體系豐富且功能強(qiáng)大。 在光刻膠領(lǐng)域,芯片光刻膠為芯片制造中的精細(xì)光刻環(huán)節(jié)提供關(guān)鍵支持,確保芯片線(xiàn)路的精細(xì)刻畫(huà); 納米壓印光刻膠適用于微納加工,助力制造超精細(xì)的微納結(jié)構(gòu); LCD 光刻膠則滿(mǎn)足液晶顯示面板生產(chǎn)...
憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線(xiàn)。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對(duì)特殊場(chǎng)景開(kāi)發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿(mǎn)足精密電子組裝的多樣化需求。同時(shí),感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性?xún)深?lèi),兼具耐潮...
納米電子器件制造 ? 半導(dǎo)體芯片:在22nm以下制程中,EUV光刻膠(分辨率≤10nm)用于制備晶體管柵極、納米導(dǎo)線(xiàn)等關(guān)鍵結(jié)構(gòu),實(shí)現(xiàn)芯片集成度提升(如3nm制程的FinFET/GAA晶體管)。 ? 二維材料器件:在石墨烯、二...
工藝流程 ? 目的:去除基板表面油污、顆粒,增強(qiáng)感光膠附著力。 ? 方法: ? 化學(xué)清洗(硫酸/雙氧水、去離子水); ? 表面處理(硅基板用六甲基二硅氮烷HMDS疏水化,PCB基板...
憑借多年研發(fā)積累,公司形成了覆蓋光刻膠、焊接材料、電子膠等領(lǐng)域的豐富產(chǎn)品線(xiàn)。在焊接材料方面,不僅提供常規(guī)錫膏、助焊膏,還針對(duì)特殊場(chǎng)景開(kāi)發(fā)了 BGA 助焊膏、針筒錫膏等定制化產(chǎn)品,滿(mǎn)足精密電子組裝的多樣化需求。同時(shí),感光膠系列產(chǎn)品分為水性與油性?xún)深?lèi),兼具耐潮...
產(chǎn)品特點(diǎn):耐溶劑型優(yōu)良,抗潮耐水性好,耐印率高;固含量高,流平性好,涂布性能優(yōu)良;經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理,網(wǎng)版平滑、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼、亮度高;剝膜性好,網(wǎng)版可再生使用;解像性、高架橋性好,易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線(xiàn)條;感光度高,曝光時(shí)間短,曝光寬容度大,節(jié)省網(wǎng)版...
技術(shù)突破與產(chǎn)業(yè)重構(gòu)的臨界點(diǎn) 光刻膠技術(shù)的加速突破正在推動(dòng)芯片制造行業(yè)進(jìn)入“材料定義制程”的新階段。中國(guó)在政策支持和資本推動(dòng)下,已在KrF/ArF領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)局部突破,但EUV等領(lǐng)域仍需5-10年才能實(shí)現(xiàn)替代。未來(lái)3-5年,EUV光刻膠研發(fā)、...