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不同光刻膠類(lèi)型的適用場(chǎng)景對(duì)比 類(lèi)型 波長(zhǎng)范圍 分辨率 典型應(yīng)用產(chǎn)品 G線/i線光刻膠 436/365nm ≥1μm PCB、LCD黑色矩陣 吉田半導(dǎo)體JT-100系列 KrF光刻膠 248nm 0.25-1μm 28nm以上芯片...

鋰電池的「儲(chǔ)鋰新希望」：科研團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)的錫碳合金負(fù)極片（錫含量50%），利用錫的「合金化儲(chǔ)鋰」機(jī)制（每克錫可嵌入4.2個(gè)鋰原子），使電池能量密度從180mAh/g提升至350mAh/g，未來(lái)有望讓電動(dòng)車(chē)?yán)m(xù)航突破1000公里。 3D打印的...

正性光刻膠（如 YK-300） 應(yīng)用場(chǎng)景：用于芯片的精細(xì)圖案化，如集成電路（IC）、分立器件（二極管、三極管）的制造。 特點(diǎn)：高分辨率（可達(dá)亞微米級(jí)），適用于多層光刻工藝，確保芯片電路的高精度與可靠性。 負(fù)性光刻膠（...

作為東莞松山湖的企業(yè)，吉田半導(dǎo)體深耕光刻膠領(lǐng)域 23 年，成功研發(fā)出 YK-300 半導(dǎo)體正性光刻膠與 JT-2000 納米壓印光刻膠。YK-300 適用于 45nm 及以上制程，線寬粗糙度（LWR）≤3nm，良率達(dá) 98% 以上，已通過(guò)中芯國(guó)際等晶圓廠驗(yàn)證；...

錫渣回收的「零浪費(fèi)哲學(xué)」：電子廠的廢料錫渣（含錫95%以上）通過(guò)真空蒸餾技術(shù)（溫度500℃，真空度＜1Pa）提純，回收率可達(dá)99.5%，在提純后的錫片雜質(zhì)含量＜0.05%，重新用于偏高級(jí)方向芯片焊接，真正實(shí)現(xiàn)「從焊點(diǎn)到焊點(diǎn)」的閉環(huán)利用。 ...

工業(yè)制造與材料加工 襯墊與密封材料 ? 錫片因延展性強(qiáng)、耐低溫，可作為高溫或高壓環(huán)境下的密封墊片（如管道連接、機(jī)械部件密封），尤其適合需要無(wú)火花、低摩擦的場(chǎng)景（如易燃易爆環(huán)境）。 合金基材與鍍層 ...

鋰電池的「儲(chǔ)鋰新希望」：科研團(tuán)隊(duì)開(kāi)發(fā)的錫碳合金負(fù)極片（錫含量50%），利用錫的「合金化儲(chǔ)鋰」機(jī)制（每克錫可嵌入4.2個(gè)鋰原子），使電池能量密度從180mAh/g提升至350mAh/g，未來(lái)有望讓電動(dòng)車(chē)?yán)m(xù)航突破1000公里。 3D打印的...

按形態(tài)與工藝分類(lèi) ? 標(biāo)準(zhǔn)焊片：規(guī)則形狀（矩形、圓形），厚度通常50μm~500μm，用于熱壓焊接或共晶焊接（如芯片與基板直接貼合）。 ? 超薄/超精密焊片：厚度＜50μm（如10μm、20μm），表面鍍鎳/金處理，...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，各有特性與優(yōu)勢(shì)，適用于不同領(lǐng)域。 厚板光刻膠 JT - 3006：具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。需保存在干燥區(qū)域并密封，使用前要閱讀參考技術(shù)資料。適用...

LCD顯示 ? 彩色濾光片（CF）： ? 黑色矩陣（BM）光刻膠：隔離像素，線寬精度±2μm，透光率<0.1%。 ? RGB色阻光刻膠：形成紅/綠/藍(lán)像素，需高色純度（NTSC≥95%）和耐光性。 ...

現(xiàn)代科技的「焊接使命」：20世紀(jì)80年的時(shí)候，貼裝技術(shù)（SMT）推動(dòng)錫片向微米級(jí)進(jìn)化，0.4mm引腳間距的QFP芯片焊接成為可能；21世紀(jì)初，無(wú)鉛化浪潮促使錫片合金配方從「經(jīng)驗(yàn)試錯(cuò)」轉(zhuǎn)向「分子模擬設(shè)計(jì)」，通過(guò)原理計(jì)算優(yōu)化Ag、Cu原子排列，焊點(diǎn)可靠性提升5...

產(chǎn)品特點(diǎn)：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理，網(wǎng)版平滑、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條；感光度高，曝光時(shí)間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版...

國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)與客戶認(rèn)證 公司通過(guò)ISO9001、ISO14001等認(rèn)證，并嚴(yán)格執(zhí)行8S現(xiàn)場(chǎng)管理，生產(chǎn)環(huán)境潔凈度達(dá)Class 10級(jí)。其光刻膠產(chǎn)品已通過(guò)京東方、TCL華星的供應(yīng)商認(rèn)證，在顯示面板領(lǐng)域的市占率約5%，成為本土企業(yè)中少數(shù)能與日本JSR、德國(guó)默克...

廣東吉田半導(dǎo)體材料有限公司多種光刻膠產(chǎn)品，主要涵蓋厚板、負(fù)性、正性、納米壓印及光刻膠等類(lèi)別，以滿足不同領(lǐng)域的需求。 厚板光刻膠：JT-3001 型號(hào)，具有優(yōu)異的分辨率和感光度，抗深蝕刻性能良好，符合歐盟 ROHS 標(biāo)準(zhǔn)，保質(zhì)期 1 年。適...

工藝品與日用品 錫制工藝品與餐具 ? 純錫或錫合金（如添加銻、銅提升硬度）制成餐具（酒杯、茶具）、裝飾品（擺件、雕塑），利用錫的無(wú)毒、易加工性和金屬光澤，兼具實(shí)用性與觀賞性。 ? 傳統(tǒng)錫器在歐洲、東南亞及中...

全品類(lèi)覆蓋 吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等，覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求，技術(shù)布局全面性于多數(shù)國(guó)內(nèi)廠商。 關(guān)鍵技術(shù)突破 納...

納米壓印光刻膠 微納光學(xué)器件制造：制作衍射光學(xué)元件、微透鏡陣列等微納光學(xué)器件時(shí)，納米壓印光刻膠可實(shí)現(xiàn)高精度的微納結(jié)構(gòu)復(fù)制。通過(guò)納米壓印技術(shù)，將模板上的微納圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠上，再經(jīng)過(guò)后續(xù)處理，可制造出具有特定光學(xué)性能的微納光學(xué)器件，應(yīng)用于光通信...

家庭小實(shí)驗(yàn)：錫片的「抗銹能力」 將兩片相同大小的錫片與鐵片同時(shí)浸入5%鹽水，24小時(shí)后鐵片布滿紅銹，而錫片表面只有出現(xiàn)極淺的灰白色氧化斑——這直觀展示了錫的電極電位優(yōu)勢(shì)（比鐵高0.3V），使其在電化學(xué)腐蝕中更「被動(dòng)」。 廚房小...

晶圓制造（前道工藝） ? 功能：在硅片表面形成高精度電路圖形，是光刻工藝的主要材料。 ? 細(xì)分場(chǎng)景： ? 邏輯/存儲(chǔ)芯片：用于28nm及以上成熟制程的KrF光刻膠（分辨率0.25-1μm）、14n...

吉田半導(dǎo)體 SU-3 負(fù)性光刻膠：國(guó)產(chǎn)技術(shù)賦能 5G 芯片封裝 自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠支持 3 微米厚膜加工，成為 5G 芯片高密度封裝材料。 針對(duì) 5G 芯片封裝需求，吉田半導(dǎo)體自主研發(fā) SU-3 負(fù)性光刻膠，分辨率達(dá) 1.5μm，抗深蝕刻...

市場(chǎng)與客戶優(yōu)勢(shì)：全球化布局與頭部客戶合作 全球客戶網(wǎng)絡(luò) 產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)全球，與三星、LG、京東方等世界500強(qiáng)企業(yè)建立長(zhǎng)期合作，在東南亞、北美市場(chǎng)市占率超15%。 區(qū)域市場(chǎng)深耕 依托東莞松山湖產(chǎn)業(yè)集群，...

錫片因具有低熔點(diǎn)、良好的導(dǎo)電性、耐腐蝕性及延展性等特性，在多個(gè)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。以下是其常見(jiàn)用途分類(lèi)及具體說(shuō)明： 一、電子與電氣行業(yè) 電子焊接（主要用途） ? 焊錫片：用于焊接電子元件（如電路板上...

技術(shù)優(yōu)勢(shì)：23年研發(fā)沉淀與細(xì)分領(lǐng)域突破 全流程自主化能力 吉田在光刻膠研發(fā)中實(shí)現(xiàn)了從樹(shù)脂合成、光引發(fā)劑制備到配方優(yōu)化的全流程自主化。例如，其納米壓印光刻膠通過(guò)自主開(kāi)發(fā)的樹(shù)脂體系，實(shí)現(xiàn)了3μm的分辨率，適用于MEMS傳感器、光學(xué)...

關(guān)鍵應(yīng)用領(lǐng)域 半導(dǎo)體制造： ? 在晶圓表面涂覆光刻膠，通過(guò)掩膜曝光、顯影，刻蝕出晶體管、電路等納米級(jí)結(jié)構(gòu)（如EUV光刻膠用于7nm以下制程）。 印刷電路板（PCB）： ? 保護(hù)電路圖形或作為...

全品類(lèi)覆蓋 吉田半導(dǎo)體產(chǎn)品線涵蓋正性 / 負(fù)性光刻膠、納米壓印光刻膠、LCD 光刻膠、厚膜光刻膠及水性光刻膠等，覆蓋芯片制造、顯示面板、PCB 及微納加工等多領(lǐng)域需求，技術(shù)布局全面性于多數(shù)國(guó)內(nèi)廠商。 關(guān)鍵技術(shù)突破 納...

吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "專精特新" 企業(yè)，行業(yè)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)，以技術(shù)創(chuàng)新與標(biāo)準(zhǔn)化生產(chǎn)為，吉田半導(dǎo)體榮獲 "廣東省專精特新企業(yè)" 稱號(hào)，樹(shù)立行業(yè)。 憑借在光刻膠領(lǐng)域的表現(xiàn)，吉田半導(dǎo)體獲評(píng) "廣東省專精特新企業(yè)"" "，承擔(dān)多項(xiàng)國(guó)家 02 專項(xiàng)課題。公司主導(dǎo)制定《半導(dǎo)體光...

產(chǎn)品特點(diǎn)：耐溶劑型優(yōu)良，抗潮耐水性好，耐印率高；固含量高，流平性好，涂布性能優(yōu)良；經(jīng)特殊乳化聚合技術(shù)處理，網(wǎng)版平滑、無(wú)白點(diǎn)、無(wú)沙眼、亮度高；剝膜性好，網(wǎng)版可再生使用；解像性、高架橋性好，易做精細(xì)網(wǎng)點(diǎn)和線條；感光度高，曝光時(shí)間短，曝光寬容度大，節(jié)省網(wǎng)版...

吉田半導(dǎo)體突破 ArF 光刻膠技術(shù)壁壘，國(guó)產(chǎn)替代再迎新進(jìn)展 自主研發(fā) ArF 光刻膠通過(guò)中芯國(guó)際驗(yàn)證，吉田半導(dǎo)體填補(bǔ)國(guó)內(nèi)光刻膠空白。 吉田半導(dǎo)體成功研發(fā)出 AT-450 ArF 光刻膠，分辨率達(dá) 90nm，適用于 14nm 及以上制程，已通過(guò)中芯國(guó)...

晶須生長(zhǎng)的「隱患與對(duì)策」：純錫片在長(zhǎng)期應(yīng)力下可能產(chǎn)生「錫晶須」（直徑1-5μm，長(zhǎng)度可達(dá)1mm），導(dǎo)致電路短路。通過(guò)添加0.05%的鎳或銻，可抑制晶須生長(zhǎng)速率90%以上，保障精密儀器（如衛(wèi)星導(dǎo)航系統(tǒng)）10年以上無(wú)故障運(yùn)行。 相圖原理的...

成本與經(jīng)濟(jì)性 ? 無(wú)鉛錫片：因錫價(jià)較高（錫價(jià)約是鉛的10~20倍），且合金配方復(fù)雜（需添加銀、銅等元素），成本比有鉛錫片高30%~50%，同時(shí)需配套更高精度的焊接設(shè)備和工藝優(yōu)化，整體生產(chǎn)成本上升。 ? 有鉛錫片：鉛成...