使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量激光光斑和質(zhì)量,包括以下步驟: 準(zhǔn)備:準(zhǔn)備 BeamHere 光斑分析儀、激光器和數(shù)據(jù)處理軟件。確保光斑傳感器放置并連接到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)采集:啟動(dòng)激光器,穩(wěn)定照射傳感器,實(shí)時(shí)傳輸圖像信息到計(jì)算機(jī)。 數(shù)據(jù)分析:BeamHer...
Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù)為,覆蓋 190-2700nm 全光譜,可測(cè) 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設(shè)備極限,捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié)。 技術(shù)優(yōu)勢(shì): 雙模式智...
維度光電針對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)上的諸多行業(yè)痛點(diǎn),隆重推出了光斑分析儀系列產(chǎn)品。在國內(nèi)激光光束質(zhì)量分析領(lǐng)域,長期以來存在著一個(gè)的問題,那就是缺乏能夠提供多樣化型號(hào)及定制化解決方案的光斑分析儀品牌。許多企業(yè)長期受限于國外設(shè)備的長周期交付和難以定制的缺陷,這不僅影響了生產(chǎn)效率...
維度光電光束質(zhì)量測(cè)量解決方案應(yīng)用場(chǎng)景 Dimension-Labs 方案覆蓋工業(yè)、醫(yī)療、科研等多領(lǐng)域: 工業(yè)制造:高功率激光切割 / 焊接實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè),優(yōu)化熱影響區(qū)控制;亞微米光斑檢測(cè)保障半導(dǎo)體晶圓劃片良率。 醫(yī)療健康:飛秒激光手術(shù)光斑能量分析,提升角膜切削精度;...
使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號(hào)處理 采集到的模擬信號(hào)經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換...
維度光電推出的 BeamHere 光斑分析儀系列提供高性價(jià)比光束質(zhì)量檢測(cè)解決方案,涵蓋掃描狹縫式、相機(jī)式及 M2 測(cè)試模塊三大產(chǎn)品線: 掃描狹縫式光斑分析儀采用國內(nèi)的刀口 / 狹縫雙模式切換技術(shù),支持 190-2700nm 寬光譜范圍,可測(cè)量 2.5μm-10...
相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對(duì)比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場(chǎng)景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 光斑尺寸 ≤55μm → 狹縫式(2.5μm 精度) ≥55μm → 相機(jī)式(10mm 量程) 激光功率 ≥1W → 狹縫式(直接測(cè)量近 10W) ≤1W...
維度光電-光斑分析儀的使用 科研場(chǎng)景 將 BeamHere 安裝在飛秒激光實(shí)驗(yàn)平臺(tái),使用觸發(fā)模式同步采集單脈沖光斑。 通過軟件 "時(shí)間序列分析" 功能,觀察脈沖序列中光斑形態(tài)變化。 調(diào)用 "光束質(zhì)量評(píng)估" 模塊,計(jì)算啁啾脈沖的 M2 因子演變曲線。 在 "用戶...
相機(jī)式與狹縫式光斑分析儀對(duì)比指南 光斑分析儀的選擇需基于應(yīng)用場(chǎng)景的光斑尺寸、功率、脈沖特性及形態(tài)復(fù)雜度: 1. 光斑尺寸 相機(jī)式:受限于 sensor 尺寸(≤10mm),小光斑為 55μm(10 倍 5.5μm 像元)。 狹縫式:刀口模式可測(cè)小 2.5μm ...
Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質(zhì)量分析系統(tǒng),針對(duì)激光加工、醫(yī)療設(shè)備等領(lǐng)域的光束質(zhì)量評(píng)估需求。該系列產(chǎn)品通過多維度檢測(cè)模塊,可對(duì)光束能量分布進(jìn)行實(shí)時(shí)可視化分析,同步獲取發(fā)散角、M2 因子等參數(shù)。支持光束整形效果驗(yàn)證、聚焦光斑優(yōu)化及準(zhǔn)直...
維度光電深刻認(rèn)識(shí)到高功率光束檢測(cè)在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會(huì)飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測(cè)成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。...
Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀,通過國內(nèi)的雙模式切換技術(shù),實(shí)現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測(cè)量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級(jí)光斑細(xì)節(jié),創(chuàng)新設(shè)計(jì)解決三大檢測(cè)痛點(diǎn): 小光斑測(cè)量:刀口模式...
維度光電-BeamHere光斑分析儀通過測(cè)量光束質(zhì)量參數(shù),為激光技術(shù)在多領(lǐng)域的高效應(yīng)用提供支撐。在工業(yè)加工領(lǐng)域,其亞微米級(jí)光斑校準(zhǔn)能力有效優(yōu)化切割、焊接及打標(biāo)工藝,確保光束輪廓的一致性,從而保障加工質(zhì)量。在醫(yī)療領(lǐng)域,該設(shè)備用于眼科準(zhǔn)分子激光手術(shù)設(shè)備的校準(zhǔn),實(shí)時(shí)...
Dimension-Labs 推出 Beamhere 光束質(zhì)量分析系統(tǒng),針對(duì)激光加工、醫(yī)療設(shè)備等領(lǐng)域的光束質(zhì)量評(píng)估需求。該系列產(chǎn)品通過多維度檢測(cè)模塊,可對(duì)光束能量分布進(jìn)行實(shí)時(shí)可視化分析,同步獲取發(fā)散角、M2 因子等參數(shù)。支持光束整形效果驗(yàn)證、聚焦光斑優(yōu)化及準(zhǔn)直...
維度光電聚焦激光領(lǐng)域應(yīng)用,推出覆蓋千瓦高功率、微米小光斑及脈沖激光的光束質(zhì)量測(cè)量解決方案。全系產(chǎn)品包含掃描狹縫式與相機(jī)式兩大技術(shù)平臺(tái):狹縫式通過正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪實(shí)現(xiàn) 0.1μm 超高分辨率,可直接測(cè)量近 10W 激光,適用于半導(dǎo)體晶圓切割等亞微米級(jí)場(chǎng)景;相機(jī)式采...
Dimension-Labs維度光電重磅推出Beamhere光斑分析儀系列產(chǎn)品,配合通用軟件實(shí)現(xiàn)完整的光束質(zhì)量分析功能。 光斑能量分布與光東發(fā)散角、M2因子是激光光東質(zhì)量檢測(cè)中的組成部分,高效的測(cè)量與分析是充分利用激光的前提。Beamhere系列產(chǎn)品功能完善,...
維度光電BeamHere 光斑分析儀選型指南: 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米用狹縫式(2.5μm 精度),毫米級(jí)用相機(jī)式(10mm 量程)。 功率等級(jí):高功率用狹縫式(近 10W),微瓦級(jí)用相機(jī)式(適配衰減片)。 光束形態(tài):高斯用狹縫式(經(jīng)濟(jì)),非高斯...
維度光電光束質(zhì)量測(cè)量解決方案基于兩大技術(shù)平臺(tái): 掃描狹縫式系統(tǒng):采用正交狹縫轉(zhuǎn)動(dòng)輪結(jié)構(gòu),通過 ±90° 旋轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn) XY 軸同步掃描,結(jié)合刀口 / 狹縫雙模式切換,突破亞微米級(jí)光斑檢測(cè)極限。光學(xué)系統(tǒng)集成高靈敏度光電探測(cè)器,配合高斯擬合算法,實(shí)現(xiàn) 0.1μm 分辨...
Dimension-Labs 為激光設(shè)備與生產(chǎn)企業(yè)推出 Beamhere 光束質(zhì)量管家。該系統(tǒng)通過智能檢測(cè)模塊,可快速完成光斑能量分布測(cè)繪、發(fā)散角計(jì)算及 M2 因子分析,幫助用戶優(yōu)化光束整形效果、提升聚焦精度。所有測(cè)試參數(shù)均符合 ISO11146 國際標(biāo)準(zhǔn),包...
維度光電深刻認(rèn)識(shí)到高功率光束檢測(cè)在激光應(yīng)用中的性和難度。大多數(shù)光斑分析儀使用的面陣傳感器在**功率下就會(huì)飽和,而常規(guī)激光器功率普遍較高,這使得大功率光束檢測(cè)成為激光應(yīng)用的難點(diǎn)。為解決這一問題,維度光電推出 BeamHere 光斑分析儀系列和大功率光束取樣系統(tǒng)。...
使用 BeamHere 光斑分析儀測(cè)量光斑與光束質(zhì)量的流程 1. 成像原理 BeamHere 采用背照式 CMOS 傳感器,量子效率達(dá) 95%(500-1000nm),配合非球面透鏡組實(shí)現(xiàn)無畸變成像。 2. 信號(hào)處理 采集到的模擬信號(hào)經(jīng) 16 位 ADC 轉(zhuǎn)換...
Dimension-Labs 維度光電相機(jī)式光斑分析儀系列覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)檢測(cè)。其優(yōu)勢(shì)包括: 動(dòng)態(tài)分析能力 支持 2D 光斑實(shí)時(shí)成像與 3D 功率分布動(dòng)態(tài)顯示,高幀率(100fps)連續(xù)測(cè)量模式可捕捉光斑...
全系列產(chǎn)品矩陣與智能分析系統(tǒng) Dimension-Labs BeamHere 系列產(chǎn)品通過全光譜覆蓋與模塊化設(shè)計(jì),構(gòu)建起完整的光束質(zhì)量測(cè)量生態(tài)系統(tǒng): 1. 全場(chǎng)景產(chǎn)品體系 光譜覆蓋:190-2700nm 超寬響應(yīng)范圍,滿足紫外到遠(yuǎn)紅外波段的測(cè)試需求 技術(shù)方案:...
Dimension-Labs 推出的相機(jī)式光斑分析儀系列包含兩個(gè)型號(hào),覆蓋 400-1700nm 寬光譜范圍,實(shí)現(xiàn)可見光與近紅外波段光斑的實(shí)時(shí)顯示與分析。其優(yōu)勢(shì)如下: 寬光譜覆蓋與動(dòng)態(tài)分析 單臺(tái)設(shè)備即可滿足 400-1700nm 全波段測(cè)量需求,支持 2D 光...
Dimension-Labs 突破性推出 Beamhere 智能光斑分析平臺(tái),通過模塊化設(shè)計(jì)實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量全參數(shù)檢測(cè)。該系統(tǒng)采用高靈敏度傳感器陣列,可實(shí)時(shí)測(cè)繪光斑能量分布,同步計(jì)算發(fā)散角及 M2 因子等指標(biāo)。針對(duì)光束整形、聚焦優(yōu)化等場(chǎng)景,系統(tǒng)提供專業(yè)分析模板,支...
光斑分析儀通過光學(xué)傳感器將光斑能量分布轉(zhuǎn)化為電信號(hào),結(jié)合算法分析實(shí)現(xiàn)光束質(zhì)量評(píng)估。Dimension-Labs 產(chǎn)品采用雙技術(shù)路線:掃描狹縫式通過 0.1μm 超窄狹縫逐行掃描,實(shí)現(xiàn) 2.5μm 至 10mm 光斑的高精度測(cè)量;相機(jī)式則利用面陣傳感器實(shí)時(shí)成像,...
Dimension-Labs 通過三大創(chuàng)新重構(gòu)光斑分析標(biāo)準(zhǔn):狹縫 - 刀口雙模式切換技術(shù),突破傳統(tǒng)設(shè)備量程限制,切換時(shí)間小于 50ms;高動(dòng)態(tài)范圍傳感器,實(shí)現(xiàn) 200-2600nm 全光譜響應(yīng),量子效率達(dá) 85%; AI 驅(qū)動(dòng)的光斑模式識(shí)別算法,率達(dá) 99.7...
BeamHere 分析軟件作為組件,支持多設(shè)備協(xié)同工作:掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)校準(zhǔn)、光斑模式智能識(shí)別、M2 因子三維重建。通過機(jī)器學(xué)習(xí)算法,可自動(dòng)補(bǔ)償環(huán)境光干擾與溫度漂移。通過可視化界面,用戶可實(shí)時(shí)查看光斑能量分布云圖、發(fā)散角變化曲線及束腰位置動(dòng)態(tài)圖,支持多參數(shù)聯(lián)動(dòng)分析...
維度光電BeamHere 光斑分析儀通過三大價(jià)值賦能激光應(yīng)用: 效率提升:全自動(dòng)化檢測(cè)流程(10 秒完成參數(shù)采集 + 1 分鐘生成報(bào)告),幫助企業(yè)將光束調(diào)試周期縮短 80% 成本優(yōu)化:雙技術(shù)方案覆蓋全尺寸光斑,避免多設(shè)備購置,典型客戶設(shè)備采購成本降** 65%...
維度光電的BeamHere光斑分析儀系列品類齊全。從精細(xì)的微小光斑分析到大面積的宏觀光斑探測(cè),從**能量到高能量密度的光斑測(cè)量,無一不在其覆蓋范圍之內(nèi)。無論是科研實(shí)驗(yàn)中對(duì)微小光斑現(xiàn)象的,需要超高分辨率的光斑分析;還是工業(yè)生產(chǎn)里對(duì)大功率激光加工光束質(zhì)量的把控,涉...