可以在高達44GHz的頻率下工作，常應用于通信、直播衛(wèi)星、移動電話、個人通信、基站、衛(wèi)星接收和發(fā)送、航空電子設備以及（GPS）。（2）與氧化鋁陶瓷相比，氧化鈹陶瓷高的導熱率可以使大功率器件中產生的熱量及時有效的傳導出去，能夠承受更大的連續(xù)波輸出功率，從而保證器件的穩(wěn)定性和可靠性。因此還廣泛應用在寬帶大功率的電子真空器件中，如行波管的輸能窗、支持桿和降壓收集極。2.核技術材料領域核能的開發(fā)利用是當今能源緊缺問題解決的重要途徑，合理有效的利用核能技術可以為社會生產提供巨大能量來供電供熱等。部分陶瓷材料也是核反應堆中的重要材料之一，例如核燃料的中子反射劑、減速劑（慢化劑）通常就采用的是采用BeO、B4C或石墨材料。氧化鈹可作為原子反應堆的中子減速劑和防輻射材料。此外,BeO陶瓷高溫輻照穩(wěn)定性比金屬鈹好，密度比金屬鈹大，高溫時有相當高的強度和熱導，而且，氧化鈹比金屬鈹價格便宜。這就使它更適于用作反應堆中的反射體、減速劑和彌散相燃料基體。氧化鈹陶瓷可用做核反應堆中的控制棒，它和U2O（氧化鈾）陶瓷還可以聯合使用而成為核燃料。3.耐火材料領域氧化鈹陶瓷作為耐火材料可用于加熱元件的耐火支持棒。純氧化鋯理論密度是5.89g/cm3。純氧化鋯陶瓷在1100℃左右時易開裂，添加氧化釔穩(wěn)定劑后可以在常溫下穩(wěn)定。加工陶瓷件量大從優(yōu)
氧化鋁陶瓷根據純度、成型工藝、用途等有很多的區(qū)分，不同的氧化鋁陶瓷在各種性能方面會有很大的差異。
與信材料目前主營的氧化鋁陶瓷純度為：99.9%氧化鋁陶瓷：高絕緣，耐強酸堿腐蝕等性能特點，
適用于離子轟擊等半導體、泛半導體行業(yè)、生物醫(yī)藥行業(yè)等。
99.8%氧化鋁陶瓷：高絕緣，耐強酸堿腐蝕等性能特點，適用于半導體、泛半導體行業(yè)、生物醫(yī)藥行業(yè)、光伏行業(yè)、面板行業(yè)等
99%氧化鋁陶瓷：適用于機械行業(yè)，精密檢測測量行業(yè)、精密儀器制造行業(yè)等
96%氧化鋁陶瓷：具有氧化鋁陶瓷普遍的性能特點，在機械、生物醫(yī)藥、航空航天、船舶、光學等各行各業(yè)都有應用。與信材料目前主要的成型工藝:等靜壓成型，干壓成型，熱壓成型等。
應用：◆絕緣元件◆機械部件◆精密陶瓷軸和襯套◆密封件、密封圈◆半導體部件◆精測檢測的配件 要求陶瓷件哪家便宜與信材料專業(yè)生產氧化鋯陶瓷、氧化鋁陶瓷、氮化硅陶瓷，氮化鋁陶瓷、激光陶瓷等各種陶瓷產品。
氧化鋁陶瓷激光反射器是高效漫反射器.
完美的漫反射和高反射效率在激光系統(tǒng)中得到了有效利用500納米到1200納米光譜范圍.
陶瓷反射器適用于干腔激光應用，例如低能量風冷系統(tǒng)或高能量激光系統(tǒng)，其中反射器通過O形環(huán)密封流管與液體冷卻劑隔離.
陶瓷激光反射器減少和消除了聚四氟乙烯聚合物反射器的許多缺點,拋光金屬鏡面反射器和填充粉末漫反射器.
陶瓷反射器的一些優(yōu)點：
陶瓷材料很堅固，可以抵抗破損；
釉面是耐腐蝕的,允許直接接觸冷卻劑–沒有像鏡面金屬反射器那樣剝落的鍍層；
高電阻率；
良好的導熱性；
無污染.
高精度氧化鋁產品的優(yōu)勢:1.機械強度大.2.耐熱性好.3.優(yōu)良的品質和優(yōu)惠的價格.4.使用壽命長.
微孔陶瓷吸盤蕞早出現在20世紀60年代，是由日本科學家發(fā)明的。當時，他們發(fā)現一種名為氧化鋁的陶瓷材料具有微孔結構，可以吸附氣體和液體。于是，他們將這種材料制成吸盤，用于工業(yè)生產中的真空吸附和分離等領域。隨著技術的不斷發(fā)展，微孔陶瓷吸盤逐漸應用于醫(yī)療、環(huán)保、食品等領域，成為一種重要的功能材料。 微孔陶瓷吸盤是一種具有微孔結構的陶瓷制品，其表面具有大量的微孔，可以形成吸附力，用于固定和吸附物體。由于微孔陶瓷吸盤具有高溫耐性、耐腐蝕、耐磨損等優(yōu)良性能，因此可以廣泛應用于醫(yī)療器械領域。 與信材料提供防靜電陶瓷手臂加工定制服務。
氮化硅陶瓷保護管(氮化硅)特征:
1/良好的抗熱震性,可以承受高達1000oC的冷熱沖擊；
2/抗蠕變性，
3/低密度，
4/高斷裂韌性，
5/硬度高、優(yōu)異耐磨性能,
6/電阻率高，絕緣性能好
7.耐高溫化學腐蝕,除了HF和H3PO44
8.優(yōu)良的機械性能,硬度,抗壓強度和抗彎強度比不銹鋼高得多.
氮化硅陶瓷提供出色的熱沖擊,極端耐熱應力,優(yōu)異的耐磨性,良好的耐化學性,和更容易加工的特征.被用來生產耐火陶瓷零件,防腐陶瓷件,陶瓷密封件,用于機加工的陶瓷刀具/刀片. 氧化鋯陶瓷彈性模量類似于鋼。機械陶瓷件批量定制
氧化鋯陶瓷具有不滲透氧氣等氣體和液體金屬良好特性，應用于高溫燃料電池、氣體測氧探頭及金屬測氧探頭等。加工陶瓷件量大從優(yōu)
等靜壓成型熱等靜壓工藝是通過惰性氣體(如氬氣或氮氣)向加工部件的外表面施加高壓(50-200MPa)和高溫(400-2000℃)，升高的溫度和壓力使材料通過塑性流動和擴散消除了表面下的空隙。熱等靜壓工藝通過薄壁預應力繞線單元可以實現均勻快速的冷卻過程，與自然冷卻過程相比生產效率提高了70%。冷等靜壓工藝可以對陶瓷或金屬粉末施加更高的壓力，在室溫或稍高的溫度(<93℃)下可達100-600MPa，以獲得具有足夠強度的“生坯”部件進行處理和加工，并燒結至蕞終強度。熱等靜壓與冷等靜壓技術讓陶瓷制造商能夠在控制材料性能的前提下提高生產率。 加工陶瓷件量大從優(yōu)